蘇州智程半導體科技股份有限公司華斌獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉蘇州智程半導體科技股份有限公司申請的專利一種半導體晶圓用的清洗裝置及其清洗方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120432414B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-09發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510919176.5，技術領域涉及：H01L21/67；該發明授權一種半導體晶圓用的清洗裝置及其清洗方法是由華斌;黃景志設計研發完成，并于2025-07-04向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種半導體晶圓用的清洗裝置及其清洗方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種半導體晶圓用的清洗裝置及其清洗方法，屬于半導體清洗技術領域，所述半導體晶圓用的清洗裝置包括：清洗槽、清洗組件以及載臺，清洗槽用于容納晶圓；清洗組件安裝在清洗槽內壁上，且通過清洗組件對清洗槽內晶圓進行沖洗；載臺安裝在清洗槽中間，且載臺可往復轉動，晶圓可放置在載臺上并隨載臺轉動，且晶圓隨載臺轉動時，清洗組件中清洗劑的噴出方向會從朝向晶圓邊緣逐步轉移到朝向晶圓表面，同時清洗劑的噴出方向從朝向晶圓邊緣逐步轉移到朝向晶圓表面時，清洗劑的噴出壓力會同步減小；本申請，可在保證晶圓不被破壞的基礎上，讓晶圓偏轉使其表面臟污受到更多清洗劑沖洗來有效提升清洗能力。
本發明授權一種半導體晶圓用的清洗裝置及其清洗方法在權利要求書中公布了：1.一種半導體晶圓用的清洗裝置，其特征在于，包括： 清洗槽（1），其用于容納晶圓； 清洗組件，其安裝在清洗槽（1）內壁上，且通過清洗組件對清洗槽（1）內晶圓進行沖洗； 載臺（2），其安裝在清洗槽（1）中間，且載臺（2）可往復轉動，載臺（2）的表面設有放置架（3）和限位槽（8），放置架（3）可放置在限位槽（8）內，且放置架（3）放入限位槽（8）后，載臺（2）可帶動放置架（3）同步轉動，放置架（3）的中間開設有若干溝槽，晶圓可放入溝槽內并隨放置架（3）同步移動，且晶圓隨載臺（2）轉動時，清洗組件中清洗劑的噴出方向從朝向晶圓邊緣逐步轉移到朝向晶圓表面，同時清洗劑的噴出方向從朝向晶圓邊緣逐步轉移到朝向晶圓表面時，清洗劑的噴出壓力同步減小。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人蘇州智程半導體科技股份有限公司，其通訊地址為：215312 江蘇省蘇州市昆山市巴城鎮中華路889號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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