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龍圖騰網獲悉泉州裝備制造研究所申請的專利一種光學元件多維參量單次曝光測量裝置和測量方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120253184B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-26發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510732599.6，技術領域涉及：G01M11/02；該發明授權一種光學元件多維參量單次曝光測量裝置和測量方法是由黃惠玲;韓軍;吳飛斌;龍晉桓;陳晟;林漢飛設計研發完成，并于2025-06-04向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種光學元件多維參量單次曝光測量裝置和測量方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種光學元件多維參量單次曝光測量裝置和測量方法，涉及多參量測量技術領域，該裝置包括：照明系統、起偏器、待測樣品、透鏡、調制板、數據采集系統和數據處理系統；所述照明系統由一臺相干光源和一個準直系統組成，為系統提供一束直徑約5mm的相干照明光；所述起偏器設置在照明系統之后，用于將光束轉換為特定偏振態的照明光；本發明通過光學路徑設計和數據處理算法，實現了單次曝光即可完成對光學元件振幅、相位和雙折射等多維參量的準確測量，極大地縮短了測量時間，將原本可能需要數小時甚至更長時間的測量過程壓縮至單次曝光瞬間完成，大幅提高了測量效率。

本發明授權一種光學元件多維參量單次曝光測量裝置和測量方法在權利要求書中公布了：1.一種光學元件多維參量單次曝光測量方法，其特征在于，所述該方法包括以下組成部分： 光學路徑設置與初始光場準備：照明系統1發出的相干光經過起偏器2后，形成特定偏振態的照明光并照射在待測樣品3上，照射到待測樣品3的照明光繼續傳播，被放置于待測樣品3后的透鏡4先進行聚焦再發散，在透鏡4焦點的后方放置已知分布的相位型調制板5，用于對照明光進行調制； 單次曝光數據采集：數據采集系統6將調制后的衍射光斑記錄下來，其中偏振相機的通光方向角度分別為0°、45°、90°和135°，采集到四幅偏振圖像； 迭代重建光場分布：將單次曝光采集到的四幅偏振圖像傳輸至數據處理系統中，利用迭代算法重建待測樣品3的振幅、相位和雙折射分布圖，將相機面上的光場表示為復數形式，用記錄到的強度信息替換該復數形式中的振幅部分，并將更新后的光場沿著與光傳播相反的方向傳輸到編碼板面，去除調制板5對照明光的調制作用，得到調制板5面上的入射光分布，將該入射光分布逆向傳回到焦平面，以焦平面作為限制條件，得到更新后的焦平面的波前分布； 雙折射信息計算與參量確定：經過多次迭代后，得到焦點處準確的光場分布，將該光場分布逆向回傳至透鏡4處，去除透鏡4對光場的相位影響，繼續逆向回傳至樣品處，得到樣品的透射函數在四個偏振方向上的振幅和相位分布，利用四個偏振方向的復振幅信息，求解樣品的雙折射信息，即求解起偏器2與應力點主軸X之間的夾角φ，以及兩束光之間的相位差δ，其計算公式為：其中，Amγ是不同偏振方向下的振幅OE是與樣品雙折射相關的振幅參數，代表未受雙折射影響的初始振幅分量，φ是起偏器2通光方向與樣品應力點主軸X之間的夾角，用于表征雙折射的方向特性，δ是樣品中兩束正交偏振光之間的相位差，反映雙折射的強度，求解方程組可得φ＝帶入sin2φ+cos2φ＝1，得到與φ無關的δ的表達式進一步得到主應力差σ1-其中，σ1和σ2是應力點上兩個垂直方向上的主應力，λ是照明光的波長，是約化普朗克常數，C是樣品的應力應變系數，用于表征應力與雙折射的轉換關系，最終得到主應力差。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人泉州裝備制造研究所，其通訊地址為：362216 福建省泉州市臺商投資區洛陽鎮上浦村吉貝511號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。