朗姆研究公司保羅·孔科拉獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉朗姆研究公司申請的專利用于半導體處理的晶片定位基座獲國家發(fā)明授權專利權,本發(fā)明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN113846314B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-23發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉:該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為:202110916287.2,技術領域涉及:C23C16/455;該發(fā)明授權用于半導體處理的晶片定位基座是由保羅·孔科拉;卡爾·利瑟;伊斯瓦·斯里尼瓦桑設計研發(fā)完成,并于2017-09-05向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于半導體處理的晶片定位基座在說明書摘要公布了:一種組件在用于在晶片上沉積膜的處理室中使用并且包括從中心軸延伸的基座。致動器配置用于控制基座的運動。中心軸在致動器和基座之間延伸,中心軸配置成沿著中心軸線移動基座。升降墊被配置為擱置在基座上并且具有墊頂表面,該墊頂表面被配置為支撐放置在其上的晶片。墊軸在致動器和升降墊之間延伸并控制升降墊的運動。墊軸定位在中心軸內,并且被配置成當基座處于向上位置時將升降墊與基座頂表面分離處理旋轉位移。墊軸配置成在第一和第二角度方位之間相對于基座頂表面旋轉。
本發(fā)明授權用于半導體處理的晶片定位基座在權利要求書中公布了:1.一種在用于在晶片上沉積膜的處理室中使用的組件,其包括: 基座,其具有以中心軸線為中心的基座頂表面; 升降墊,其被配置成支撐放置在所述升降墊的墊頂表面上的所述晶片; 凹部,其位于以中心軸線為中心的所述基座頂表面內,所述凹部具有凹部頂表面,該凹部頂表面被配置為當所述升降墊擱置在所述凹部表面上時支撐所述升降墊;以及 墊軸,所述墊軸從所述升降墊的底部沿著所述中心軸線延伸并且被配置成將所述升降墊從所述基座分離并相對于所述基座旋轉所述升降墊; 其中所述升降墊被配置成沿著所述中心軸線從所述基座分離。
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