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龍圖騰網(wǎng)獲悉應用材料公司申請的專利用于排隊式基板處理系統(tǒng)的掩模處理模塊和用于在真空處理系統(tǒng)中進行掩模傳送的方法獲國家發(fā)明授權專利權，本發(fā)明授權專利權由國家知識產(chǎn)權局授予，授權公告號為：CN112740391B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權局官網(wǎng)在2025-09-23發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉：該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為：201880097729.1，技術領域涉及：H01L21/677；該發(fā)明授權用于排隊式基板處理系統(tǒng)的掩模處理模塊和用于在真空處理系統(tǒng)中進行掩模傳送的方法是由塞巴斯蒂安·鞏特爾·臧設計研發(fā)完成，并于2018-09-19向國家知識產(chǎn)權局提交的專利申請。

本用于排隊式基板處理系統(tǒng)的掩模處理模塊和用于在真空處理系統(tǒng)中進行掩模傳送的方法在說明書摘要公布了：描述了提供一種用于排隊式基板處理系統(tǒng)的掩模處理模塊、一種用于基板的排隊式處理的真空處理系統(tǒng)、及一種用于掩模傳送的方法。此掩模處理模塊包括真空旋轉腔室，提供于第一真空腔室及第二真空腔室之間的此排隊式基板處理系統(tǒng)內(nèi)；旋轉機構，位于此真空旋轉腔室內(nèi)；第一掩模臺，具有第一掩模保持器組件，且此第一掩模臺安裝于此旋轉機構上，以旋轉此第一掩模臺，及第二掩模臺，具有第二掩模保持器組件，且此第二掩模臺安裝于此旋轉機構上，以旋轉此第二掩模臺；掩模處理組件，配置成用于此第一掩模臺及掩模處理腔室之間的第一掩模傳送；及第一基板運輸軌道，與此第一掩模臺相關聯(lián)，此第一基板運輸軌道配置成用以支撐第一基板載體，此第一掩模保持器組件配置成用于此第一掩模臺及此第一基板載體之間的第二掩模傳送；及第二基板運輸軌道，與此第二掩模臺相關聯(lián)，此第二基板運輸軌道配置成用以支撐第二基板載體。

本發(fā)明授權用于排隊式基板處理系統(tǒng)的掩模處理模塊和用于在真空處理系統(tǒng)中進行掩模傳送的方法在權利要求書中公布了：1.一種用于排隊式基板處理系統(tǒng)的掩模處理模塊，包括： 真空旋轉腔室，提供于第一真空腔室及第二真空腔室之間的所述排隊式基板處理系統(tǒng)內(nèi)； 旋轉機構，位于所述真空旋轉腔室內(nèi)； 第一掩模臺，具有第一掩模保持器組件，且所述第一掩模臺固定地安裝于所述旋轉機構上，以旋轉所述第一掩模臺； 第二掩模臺，具有第二掩模保持器組件，且所述第二掩模臺固定地安裝于所述旋轉機構上，以旋轉所述第二掩模臺； 掩模處理組件，配置成用于所述第一掩模臺及掩模處理腔室之間的第一掩模傳送，所述掩模處理組件配置成將掩模裝載至所述第一掩模臺； 第一基板運輸軌道，與所述第一掩模臺相關聯(lián)，所述第一基板運輸軌道配置成用以支撐第一基板載體，所述第一掩模保持器組件配置成用于所述第一掩模臺及所述第一基板載體之間的第二掩模傳送，所述第一掩模保持器組件配置成將所述掩模從所述第一掩模臺傳送至所述第一基板載體；和 第二基板運輸軌道，與所述第二掩模臺相關聯(lián)，所述第二基板運輸軌道配置成用以支撐第二基板載體， 其中所述旋轉機構包括旋轉支撐件及致動器，所述致動器配置成用以在所述真空旋轉腔室內(nèi)旋轉所述旋轉支撐件，并且 其中所述第一掩模臺及所述第二掩模臺相對于所述旋轉支撐件為靜止的。

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