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龍圖騰網(wǎng)獲悉中科寶溢視覺科技(江蘇)有限公司申請的專利一種雙面光學(xué)成像膜的檢測裝置及檢測方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN120369676B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-23發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號(hào)為：202510863909.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G01N21/55；該發(fā)明授權(quán)一種雙面光學(xué)成像膜的檢測裝置及檢測方法是由張保平;劉太龍;紀(jì)諾設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2025-06-26向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種雙面光學(xué)成像膜的檢測裝置及檢測方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及光學(xué)膜檢測技術(shù)領(lǐng)域，提供了一種雙面光學(xué)成像膜的檢測裝置及檢測方法，包括獲取雙面光學(xué)成像膜的第一光學(xué)反射數(shù)據(jù)和第二光學(xué)反射數(shù)據(jù)并進(jìn)行比對，得到全局反射差異數(shù)據(jù)并進(jìn)行分析，得到光學(xué)反射性能數(shù)據(jù)和透射性能數(shù)據(jù)，將光學(xué)反射性能數(shù)據(jù)和透射性能數(shù)據(jù)輸入預(yù)設(shè)的分析模型，輸出光學(xué)性能評(píng)估報(bào)告。通過獲取雙面光學(xué)成像膜的第一光學(xué)反射數(shù)據(jù)和第二光學(xué)反射數(shù)據(jù)，并將其進(jìn)行比對和統(tǒng)計(jì)分析，得到準(zhǔn)確的全局反射差異數(shù)據(jù)，再通過預(yù)設(shè)的分析模型，輸出光學(xué)性能評(píng)估報(bào)告，提供了更為全面和性能評(píng)估，適用于多種高精度光學(xué)設(shè)備的質(zhì)量控制和性能分析，改善在高精度應(yīng)用場景下，存在難以兼顧光學(xué)均勻性和反射特性的全面評(píng)估的問題。

本發(fā)明授權(quán)一種雙面光學(xué)成像膜的檢測裝置及檢測方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種雙面光學(xué)成像膜的檢測方法，其特征在于，包括： 獲取雙面光學(xué)成像膜的第一表面的第一光學(xué)反射數(shù)據(jù)和第二表面的第二光學(xué)反射數(shù)據(jù)，將所述第一光學(xué)反射數(shù)據(jù)與所述第二光學(xué)反射數(shù)據(jù)進(jìn)行比對，得到全局反射差異數(shù)據(jù)； 通過K-均值聚類算法對所述全局反射差異數(shù)據(jù)進(jìn)行聚類處理，生成光學(xué)均勻性聚類圖，基于所述光學(xué)均勻性聚類圖，利用標(biāo)準(zhǔn)差法計(jì)算膜表面光學(xué)均勻性的整體偏差值，并利用局部加權(quán)回歸法計(jì)算局部偏差值；利用快速傅里葉變換對所述整體偏差值和所述局部偏差值進(jìn)行頻域分解，生成表面光學(xué)均勻性數(shù)據(jù)；應(yīng)用功率譜密度分析對所述表面光學(xué)均勻性數(shù)據(jù)進(jìn)行頻域分析，得到均勻性頻譜數(shù)據(jù)，根據(jù)主成分分析對所述均勻性頻譜數(shù)據(jù)和所述整體偏差值進(jìn)行降維分析，基于分析結(jié)果生成光學(xué)均勻性特征指標(biāo)和光學(xué)偏差分布參數(shù)；基于空間自相關(guān)對所述光學(xué)均勻性特征指標(biāo)進(jìn)行空間統(tǒng)計(jì)分析，生成全局均勻性指數(shù)，利用線性回歸模型對所述全局均勻性指數(shù)和所述光學(xué)偏差分布參數(shù)進(jìn)行回歸分析，得到光學(xué)均勻性評(píng)估值； 根據(jù)所述光學(xué)均勻性評(píng)估值對雙面光學(xué)成像膜的第一表面和第二表面的光學(xué)均勻性進(jìn)行綜合分析，得到光學(xué)均勻性分析結(jié)果； 通過DBSCAN算法對所述光學(xué)均勻性分析結(jié)果進(jìn)行聚類處理，識(shí)別膜表面光學(xué)特性變化區(qū)域，生成光學(xué)均勻性區(qū)域劃分圖，基于所述光學(xué)均勻性區(qū)域劃分圖提取每個(gè)特性變化區(qū)域的光學(xué)均勻性均值和最大偏差值，通過所述光學(xué)均勻性均值和所述最大偏差值生成光學(xué)均勻性指標(biāo)；利用線性判別分析對所述光學(xué)均勻性指標(biāo)進(jìn)行分類分析，得到光學(xué)均勻性特征數(shù)據(jù)集，通過支持向量機(jī)回歸模型對所述光學(xué)均勻性特征數(shù)據(jù)集進(jìn)行回歸分析，得到光學(xué)反射特性相關(guān)參數(shù)和光學(xué)偏差參數(shù)；根據(jù)傳輸矩陣法對所述光學(xué)反射特性相關(guān)參數(shù)進(jìn)行光學(xué)反射性能擬合計(jì)算，得到雙面光學(xué)成像膜的光學(xué)反射性能數(shù)據(jù)；利用菲涅爾方程對所述光學(xué)偏差參數(shù)進(jìn)行透射性能計(jì)算，得到雙面光學(xué)成像膜的透射性能數(shù)據(jù)； 將所述光學(xué)反射性能數(shù)據(jù)和所述透射性能數(shù)據(jù)輸入預(yù)設(shè)的分析模型，輸出光學(xué)性能綜合評(píng)分，根據(jù)所述光學(xué)性能綜合評(píng)分生成光學(xué)性能評(píng)估報(bào)告。

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