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          福建省晉華集成電路有限公司顏逸飛獲國家專利權(quán)

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          龍圖騰網(wǎng)獲悉福建省晉華集成電路有限公司申請的專利半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號為:CN114361109B

          龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-12發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為:202210010098.3,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H10D84/01;該發(fā)明授權(quán)半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)是由顏逸飛;朱家儀設(shè)計研發(fā)完成,并于2020-03-27向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

          半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)在說明書摘要公布了:本發(fā)明提供了一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)。通過在柵極結(jié)構(gòu)的側(cè)邊設(shè)置底部依次降低的至少兩個隔離側(cè)墻,并使接觸插塞的底部進一步降低而延伸至襯底中,進而使得金屬硅化物層內(nèi)陷在襯底的較深位置中,增加了金屬硅化物層和柵極結(jié)構(gòu)之間的距離。如此,即可有效改善在金屬硅化物層的制備過程中以及金屬硅化物層制備完成后出現(xiàn)的金屬擴散至柵極結(jié)構(gòu)的問題。

          本發(fā)明授權(quán)半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)在權(quán)利要求書中公布了:1.一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于,包括: 襯底; 至少一個柵極結(jié)構(gòu),形成在所述襯底上; 第一隔離側(cè)墻,位于所述襯底表面上,覆蓋所述柵極結(jié)構(gòu)的側(cè)壁,并且所述第一隔離側(cè)墻的底部低于所述柵極結(jié)構(gòu)的底部; 第二隔離側(cè)墻,覆蓋所述第一隔離側(cè)墻遠(yuǎn)離柵極結(jié)構(gòu)的側(cè)壁,并且所述第二隔離側(cè)墻的底部低于所述第一隔離側(cè)墻的底部; 第三隔離側(cè)墻,覆蓋所述第二隔離側(cè)墻遠(yuǎn)離柵極結(jié)構(gòu)的側(cè)壁,并且所述第三隔離側(cè)墻的底部低于所述第一隔離側(cè)墻的底部; 接觸插塞,形成在所述第三隔離側(cè)墻遠(yuǎn)離所述柵極結(jié)構(gòu)的側(cè)邊,并且所述接觸插塞的底部低于所述第二隔離側(cè)墻的底部并延伸至所述襯底中;以及, 金屬硅化物層,位于所述接觸插塞底部的襯底中,并直接接觸所述接觸插塞和所述襯底,所述金屬硅化物層靠近所述柵極結(jié)構(gòu)的邊界落在所述第一隔離側(cè)墻和所述第三隔離側(cè)墻之間。

          如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)@麢?quán)人福建省晉華集成電路有限公司,其通訊地址為:362200 福建省泉州市晉江市集成電路科學(xué)園聯(lián)華大道88號;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。

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