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龍圖騰網(wǎng)獲悉河北光興半導(dǎo)體技術(shù)有限公司申請(qǐng)的專利玻璃蝕刻設(shè)備及生產(chǎn)系統(tǒng)獲國(guó)家實(shí)用新型專利權(quán)，本實(shí)用新型專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN223329204U 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-12發(fā)布的實(shí)用新型授權(quán)公告中獲悉：該實(shí)用新型的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202422124943.7，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C03C15/00；該實(shí)用新型玻璃蝕刻設(shè)備及生產(chǎn)系統(tǒng)是由李青;李赫然;楊忠樑;任書明;王德勝;米小龍;王浩;李哲設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2024-08-30向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本玻璃蝕刻設(shè)備及生產(chǎn)系統(tǒng)在說(shuō)明書摘要公布了：本實(shí)用新型提供了一種玻璃蝕刻設(shè)備及生產(chǎn)系統(tǒng)，包括：設(shè)備本體、蝕刻槽和傳送輥組件，蝕刻槽設(shè)置在設(shè)備本體內(nèi)，用于容納蝕刻液；傳送輥組件可并排設(shè)置在蝕刻槽上方，并且可轉(zhuǎn)動(dòng)以沿傳送待蝕刻的玻璃板；第一傳送輥、第二傳送輥和第三傳送輥交錯(cuò)設(shè)置，兩端可升降地固定在蝕刻槽的槽壁上；第一傳送輥中部包覆有第一吸水層，第一吸水層寬度與玻璃板寬度適配，用于在玻璃板底面涂覆蝕刻液；第二傳送輥端部包覆有第二吸水層，第二吸水層的厚度與玻璃板的厚度適配，用于在玻璃板左右兩側(cè)涂覆蝕刻液；第三傳送輥表面不包覆吸水層。本申請(qǐng)可以靈活地蝕刻玻璃板的不同表面，并簡(jiǎn)化工藝、降低成本，提高良品率。

本實(shí)用新型玻璃蝕刻設(shè)備及生產(chǎn)系統(tǒng)在權(quán)利要求書中公布了：1.一種玻璃蝕刻設(shè)備，其特征在于，包括； 設(shè)備本體2； 蝕刻槽3，所述蝕刻槽3設(shè)置在所述設(shè)備本體2內(nèi)，用于容納蝕刻液； 傳送輥組件4，所述傳送輥組件4沿寬度方向并排設(shè)置在所述蝕刻槽3上方，并且可繞寬度方向轉(zhuǎn)動(dòng)以沿長(zhǎng)度方向傳送待蝕刻的玻璃板； 所述傳送輥組件4包括第一傳送輥41、第二傳送輥42和第三傳送輥43，所述第一傳送輥41、所述第二傳送輥42和所述第三傳送輥43交錯(cuò)設(shè)置，兩端可升降地固定在所述蝕刻槽3的槽壁上； 所述第一傳送輥41中部包覆有第一吸水層411，所述第一吸水層411寬度與所述玻璃板寬度適配，用于吸收所述蝕刻槽3內(nèi)的蝕刻液并在所述玻璃板的底面涂覆蝕刻液； 所述第二傳送輥42端部包覆有第二吸水層421，所述第二吸水層421的厚度與所述玻璃板的厚度適配，用于吸收所述蝕刻槽3內(nèi)的蝕刻液并在所述玻璃板沿寬度方向的兩側(cè)涂覆蝕刻液； 所述第三傳送輥43表面不包覆吸水層。

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