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龍圖騰網獲悉浙江大學申請的專利視覺大模型輔助的統一多任務計算光刻建模與缺陷檢測方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120411101B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-09發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510912193.6，技術領域涉及：G06T7/00；該發明授權視覺大模型輔助的統一多任務計算光刻建模與缺陷檢測方法是由孫奇;劉雨萌;卓成;金謙;姜鈺琪設計研發完成，并于2025-07-03向國家知識產權局提交的專利申請。

本視覺大模型輔助的統一多任務計算光刻建模與缺陷檢測方法在說明書摘要公布了：本發明公開了視覺大模型輔助的統一多任務計算光刻建模與缺陷檢測方法，不僅具備高精度的建模能力與缺陷識別性能，同時顯著降低模型部署成本，具備高度自動化、統一建模與工程可擴展性等優勢。包括以下步驟：構建圖像生成與缺陷檢測雙任務數據集；基于統一的Transformer架構，構建融合工藝條件的兩階段圖像生成模型，實現由layout圖像生成mask與contour圖像；針對layout、mask與contour三類圖像，構建基于DETR的缺陷檢測模型，進行DRC、MRC、LRC檢測；構建端到端光刻大模型框架，支持輸入layout后同時輸出mask、contour及DRCMRCLRC檢測結果。

本發明授權視覺大模型輔助的統一多任務計算光刻建模與缺陷檢測方法在權利要求書中公布了：1.視覺大模型輔助的統一多任務計算光刻建模與缺陷檢測方法，其特征在于，包括以下步驟： 步驟1、利用Calibre仿真工具在多工藝條件下生成layout、mask與contour圖像，構建圖像生成與缺陷檢測雙任務數據集，為后續多任務學習提供數據基礎； 步驟2、在步驟1所構建的數據基礎上，基于統一的Transformer架構，構建融合工藝條件的兩階段圖像生成模型，實現由layout圖像生成mask與contour圖像； 步驟3、基于步驟1中構建的真實缺陷檢測數據集，針對layout、mask與contour三類圖像，構建基于DETR的缺陷檢測模型，進行DRC、MRC、LRC檢測； 步驟4、在兩階段圖像生成模型與缺陷檢測模型的基礎上，構建統一的端到端光刻建模與缺陷檢測框架，該框架以步驟1中采集的layout圖像為輸入，首先通過步驟2的兩階段圖像生成模型生成mask與contour圖像；隨后，結合生成圖像與真實圖像，引入步驟3的DETR檢測模塊，實現對DRC、MRC、LRC多類缺陷的綜合檢測與定位。

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