福建技術師范學院林淵智獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉福建技術師范學院申請的專利一種耐刺穿減薄型纏繞膜及其制備方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN116535990B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202310327973.5,技術領域涉及:B32B27/32;該發明授權一種耐刺穿減薄型纏繞膜及其制備方法是由林淵智;柯俊沐;蘇羽航;林新興;黃益飛;余立設計研發完成,并于2023-03-30向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種耐刺穿減薄型纏繞膜及其制備方法在說明書摘要公布了:本發明涉及一種耐刺穿減薄型纏繞膜,其由五層材料組成。其中,按重量份計,第二層、第三層和第四層的原料包括共聚線性低密度聚乙烯40~50份,乙烯?丙烯酸甲酯共聚物20~30份,超低密度聚乙烯3~10份,馬來酸酐1~2份,過氧化苯甲酰0.1~0.25份和活性納米碳酸鈣1~5份。共聚線性低密度聚乙烯、乙烯?丙烯酸甲酯共聚物以及超低密度聚乙烯作為乙烯聚合物在過氧化苯甲酰作用下發生交聯,形成一些不同程度的網絡狀交聯結構,從而提高薄膜的耐刺穿性能;活性納米碳酸鈣除了能起到增強增韌的作用外,又能提高熔體流動速率,從而利于薄膜減薄化且不影響其透明度;超低密度聚乙烯在保持共擠薄膜韌性的基礎上,可降低薄膜厚度且還能夠為膜層提供自粘性。
本發明授權一種耐刺穿減薄型纏繞膜及其制備方法在權利要求書中公布了:1.一種耐刺穿減薄型纏繞膜,所述的纏繞膜由五層材料組成,其特征在于:自纏繞膜的外側至內側,依次為第一層、第二層、第三層、第四層、第五層;所述第二層、第三層和第四層的原料相同; 其中,按重量份計,所述第二層、第三層和第四層的原料包括共聚線性低密度聚乙烯40~50份,乙烯-丙烯酸甲酯共聚物20~30份,超低密度聚乙烯3~10份,馬來酸酐1~2份,過氧化苯甲酰0.1~0.25份和活性納米碳酸鈣1~5份; 按重量份計,所述第一層原料包括共聚線性低密度聚乙烯70~80份,茂金屬聚乙烯20~30份和聚異丁烯2~5份; 按重量份計,所述第五層原料包括共聚線性低密度聚乙烯60~80份,低密度聚乙烯5~40份和含氟聚合物加工助劑0.1~0.5份。
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