武漢大學沈威獲國家專利權
買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標用IPTOP,全免費！專利年費監控用IP管家,真方便！
龍圖騰網獲悉武漢大學申請的專利一種考慮界面粗糙度分布的接觸熱阻測量方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119510488B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202411525392.3，技術領域涉及：G01N25/20；該發明授權一種考慮界面粗糙度分布的接觸熱阻測量方法是由沈威;陳民;王詩兆;田志強;倪聞濤設計研發完成，并于2024-10-30向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種考慮界面粗糙度分布的接觸熱阻測量方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種考慮界面粗糙度分布的接觸熱阻測量方法，屬于薄膜沉積技術領域。方法包括獲取下層薄膜上表面的形貌結構數據，并根據下層薄膜上表面的形貌結構數據構建下層薄膜表面分布函數；上層薄膜沉積后，獲取上層薄膜上表面的形貌結構數據，并根據上層薄膜上表面的形貌結構數據構建上層薄膜表面分布函數；基于下層薄膜表面分布函數和上層薄膜表面分布函數計算初始空洞占比；按設定角度沿中軸線旋轉上層薄膜三維圖，計算每次旋轉后的空洞占比；根據初始空洞占比和每次旋轉后的空洞占比，構建不同空洞占比的有限元模型，并測量不同空洞占比下的接觸熱阻。本發明考慮了界面粗糙度分布對接觸熱阻的影響，得到不同空洞占比下的接觸熱阻。
本發明授權一種考慮界面粗糙度分布的接觸熱阻測量方法在權利要求書中公布了：1.一種考慮界面粗糙度分布的接觸熱阻測量方法，其特征在于，包括： 獲取下層薄膜上表面的形貌結構數據，并根據下層薄膜上表面的形貌結構數據構建下層薄膜表面分布函數； 上層薄膜沉積后，獲取上層薄膜上表面的形貌結構數據，并根據上層薄膜上表面的形貌結構數據構建上層薄膜表面分布函數； 基于所述下層薄膜表面分布函數和上層薄膜表面分布函數計算初始空洞占比； 基于下層薄膜上表面和上層薄膜上表面的形貌結構數據，在三維模型空間中，按設定角度沿中軸線旋轉所述上層薄膜三維圖，計算每次旋轉后的空洞占比； 根據初始空洞占比和每次旋轉后的空洞占比，構建不同空洞占比的有限元模型，并通過有限元模型測量不同空洞占比下的接觸熱阻。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人武漢大學，其通訊地址為：430072 湖北省武漢市武昌區八一路299號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
以上內容由AI智能生成
免責聲明
1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
開放平臺
擔保交易
惠及多方
會員特惠
專屬平臺
適合多方
數據共享
功能齊全
皖公網安備 34010402703815號