JSR株式會社秋池利之獲國家專利權
買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標用IPTOP,全免費！專利年費監控用IP管家,真方便！
龍圖騰網獲悉JSR株式會社申請的專利感放射線性組合物、顯示裝置用絕緣膜及其形成方法、顯示裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN111913356B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-26發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202010356445.9，技術領域涉及：G03F7/075；該發明授權感放射線性組合物、顯示裝置用絕緣膜及其形成方法、顯示裝置是由秋池利之;奧村佳久;田崎太一;尹昶植設計研發完成，并于2020-04-29向國家知識產權局提交的專利申請。
本感放射線性組合物、顯示裝置用絕緣膜及其形成方法、顯示裝置在說明書摘要公布了：本發明提供一種感放射線性組合物、使用所述感放射線性組合物而獲得的顯示裝置用絕緣膜及顯示裝置、使用所述感放射線性組合物的顯示裝置用絕緣膜的形成方法、以及作為所述感放射線性組合物的成分而優選的倍半硅氧烷，所述感放射線性組合物具有充分的光刻性能，且即便通過比較低溫、例如120℃以下的加熱也可獲得具有充分的耐蝕刻藥液性及耐氧灰化性的硬化膜。本發明的感放射線性組合物為包含具有下述式1所表示的第一結構單元的倍半硅氧烷、感放射線性自由基聚合引發劑、及有機溶媒的感放射線性組合物。式1中，X為具有不飽和雙鍵的一價有機基。[化1]
本發明授權感放射線性組合物、顯示裝置用絕緣膜及其形成方法、顯示裝置在權利要求書中公布了：1.一種感放射線性組合物，包含： 倍半硅氧烷，具有下述式1所表示的第一結構單元及下述式2所表示的第二結構單元； 感放射線性自由基聚合引發劑；以及 有機溶媒， 式1中，X是由下述式3所表示， 式2中，Y是由下述式4a或式4b所表示， 式3、式4a及式4b中，R1分別獨立地為氫原子或甲基；R2分別獨立地為碳數2～10的烷二基；R3為二價有機基；R4為單鍵或二價有機基；Z分別獨立地為硫原子；*表示鍵結部位。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人JSR株式會社，其通訊地址為：日本東京港區東新橋一丁目9番2號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
以上內容由AI智能生成
免責聲明
1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
開放平臺
擔保交易
惠及多方
會員特惠
專屬平臺
適合多方
數據共享
功能齊全
皖公網安備 34010402703815號