武漢楚興技術有限公司胡振獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉武漢楚興技術有限公司申請的專利一種等離子刻蝕裝置獲國家實用新型專利權,本實用新型專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN223390493U 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-26發布的實用新型授權公告中獲悉:該實用新型的專利申請號/專利號為:202422815597.7,技術領域涉及:H01J37/32;該實用新型一種等離子刻蝕裝置是由胡振;蔡源設計研發完成,并于2024-11-18向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種等離子刻蝕裝置在說明書摘要公布了:本申請提供一種等離子刻蝕裝置,涉及半導體工藝制造技術領域,旨在提高等離子體在等離子刻蝕腔體內分布的均勻性。等離子刻蝕腔體包括承載臺和壓力調節結構。承載臺用于承載晶圓。分子泵的進氣口與承載臺中心軸線之間具有間隔。壓力調節結構,包括沿第一方向依次設置的至少兩個懸浮環,且至少兩個懸浮環在第一方向上正對設置,懸浮環設置在承載臺的上方,懸浮環包括第一部分和第二部分。相鄰兩個懸浮環的第一部分之間的間距小于相鄰兩個懸浮環的第二部分之間的間距。其中,第一方向為垂直于晶圓表面的方向。
本實用新型一種等離子刻蝕裝置在權利要求書中公布了:1.一種等離子刻蝕裝置,其特征在于,包括: 承載臺,用于承載晶圓; 壓力調節結構,包括沿第一方向依次設置的至少兩個懸浮環,且所述至少兩個懸浮環在所述第一方向上正對設置,所述懸浮環設置在所述承載臺的上方,所述懸浮環包括第一部分和第二部分;相鄰兩個所述懸浮環的第一部分之間的間距小于相鄰兩個所述懸浮環的第二部分之間的間距; 其中,所述第一方向為垂直于所述晶圓表面的方向。
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