中國地質大學(武漢)余火根獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉中國地質大學(武漢)申請的專利一種高產氫活性的g-C3N4/Ag@NiBx光催化材料及其制備方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119680611B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-26發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202411978836.9，技術領域涉及：B01J27/24；該發明授權一種高產氫活性的g-C3N4/Ag@NiBx光催化材料及其制備方法是由余火根;龍浩宇;余家國設計研發完成，并于2024-12-31向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種高產氫活性的g-C3N4/Ag@NiBx光催化材料及其制備方法在說明書摘要公布了：本發明屬于光催化制氫技術領域，具體涉及一種高產氫活性的g?C3N4Ag@NiBx光催化材料及其制備方法。該方法通過錨定銀Ag，在其表面原位自催化沉積硼化鎳NiBx，獲得了具有小尺寸且分散均勻的Ag@NiBx核殼助催化劑，顯著提升了光催化制氫活性。
本發明授權一種高產氫活性的g-C3N4/Ag@NiBx光催化材料及其制備方法在權利要求書中公布了：1.一種高產氫活性的g-C3N4Ag@NiBx光催化材料的制備方法，其特征在于，包括以下步驟： S1、在強烈攪拌條件下，將0.1g的g-C3N4固體粉末加入到80mL的三乙醇胺水溶液中，均勻分散后，加入1mL的硝酸銀溶液，得到均勻懸浮液； S2、排除懸浮液中的氧氣，并在氮氣氛圍下對懸浮液進行光沉積處理，反應1小時；反應結束后，依次進行離心、清洗和干燥處理，得到g-C3N4Ag產物； S3、將g-C3N4Ag產物分散于80mL去離子水中，在攪拌和氮氣氣氛下，加入1mL乙酸鎳-二甲基氨硼烷混合溶液，進行Ag誘導自催化沉積反應，得到g-C3N4Ag@NiBx光催化劑，其中，g-C3N4Ag產物的用量為0.1g。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人中國地質大學(武漢)，其通訊地址為：430000 湖北省武漢市洪山區魯磨路388號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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