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龍圖騰網(wǎng)獲悉東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社申請(qǐng)的專利等離子體處理裝置獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN114864366B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-23發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202210080663.3，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01J37/32；該發(fā)明授權(quán)等離子體處理裝置是由池田太郎;北原聰文設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2022-01-24向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本等離子體處理裝置在說(shuō)明書摘要公布了：本發(fā)明提供一種等離子體處理裝置，等離子體處理裝置具備：同軸管，其設(shè)置為沿上下方向延伸，形成高頻波導(dǎo)的一部分；基板支承部，其用于支承基板；電極，其具有與向所述基板支承部的上方的空間開(kāi)口的氣體噴出口連接的氣體流路，所述電極設(shè)于所述基板支承部的上方且在中央連接有所述同軸管的內(nèi)側(cè)導(dǎo)體；擴(kuò)徑部，其與所述電極一起形成所述高頻波導(dǎo)的一部分，并與所述同軸管的外側(cè)導(dǎo)體連接；電介質(zhì)管，其由電介質(zhì)構(gòu)成，該電介質(zhì)管以貫穿所述電極與所述擴(kuò)徑部之間的空間的方式與所述電極連接，用于向所述電極供給氣體，其中，以散布的方式設(shè)置有多個(gè)所述電介質(zhì)管。

本發(fā)明授權(quán)等離子體處理裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種等離子體處理裝置，其具備： 同軸管，其設(shè)置為沿上下方向延伸，形成高頻波導(dǎo)的一部分； 基板支承部，其用于支承基板； 電極，其具有與向所述基板支承部的上方的空間開(kāi)口的氣體噴出口連接的氣體流路，所述電極設(shè)于所述基板支承部的上方且在中央連接有所述同軸管的內(nèi)側(cè)導(dǎo)體； 擴(kuò)徑部，其與所述電極一起形成所述高頻波導(dǎo)的一部分，并與所述同軸管的外側(cè)導(dǎo)體連接，所述擴(kuò)徑部設(shè)于所述電極的上方；以及 電介質(zhì)管，其由電介質(zhì)構(gòu)成，該電介質(zhì)管以貫穿由所述電極的上表面與所述擴(kuò)徑部的下表面劃分出的空間的方式與所述電極連接，用于向所述電極供給氣體， 其中，以散布的方式設(shè)置有多個(gè)所述電介質(zhì)管。

如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。