北京理工大學(xué);北京理工大學(xué)重慶微電子研究院于偉華獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉北京理工大學(xué);北京理工大學(xué)重慶微電子研究院申請的專利一種基于介質(zhì)透鏡的太赫茲多波束頻掃天線獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號為:CN119481692B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-23發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為:202411726678.8,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H01Q1/50;該發(fā)明授權(quán)一種基于介質(zhì)透鏡的太赫茲多波束頻掃天線是由于偉華;彭洪;張智超;鄧長江設(shè)計研發(fā)完成,并于2024-11-28向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本一種基于介質(zhì)透鏡的太赫茲多波束頻掃天線在說明書摘要公布了:本發(fā)明公開了一種基于介質(zhì)透鏡的太赫茲多波束頻掃天線,包括:饋電陣列,包括金屬基板和開設(shè)于金屬基板上的矩形波導(dǎo)饋電陣列;直角梯形金屬空腔,包括直角腰側(cè)和斜腰側(cè);頻移介質(zhì)透鏡包括介質(zhì)基板和位于介質(zhì)基板上方的介質(zhì)賦形透鏡;介質(zhì)賦形透鏡包括沿介質(zhì)基板橫向和縱向分布的N*M個賦形單元,每個賦形單元的長度和寬度相等,每個賦形單元的高度進(jìn)行特定計算。本發(fā)明通過饋電陣列和頻移介質(zhì)透鏡集成的方式,實現(xiàn)時域波束掃描和頻域波束掃描的融合,具有時頻融合二維掃描、波束分辨率高的優(yōu)勢;并且通過采用頻移介質(zhì)透鏡實現(xiàn)偏移和輻射端,具有增益任意擴(kuò)展、不存在柵瓣、工作帶寬大的優(yōu)勢。
本發(fā)明授權(quán)一種基于介質(zhì)透鏡的太赫茲多波束頻掃天線在權(quán)利要求書中公布了:1.一種基于介質(zhì)透鏡的太赫茲多波束頻掃天線,其特征在于:包括: 饋電陣列,包括金屬基板和開設(shè)于金屬基板上的矩形波導(dǎo)饋電陣列; 直角梯形金屬空腔,包括直角腰側(cè)和斜腰側(cè);直角梯形金屬空腔的直角腰側(cè)與所述矩形波導(dǎo)饋電陣列的饋出側(cè)連接; 頻移介質(zhì)透鏡包括介質(zhì)基板和位于介質(zhì)基板上方的介質(zhì)賦形透鏡;所述介質(zhì)基板與直角梯形金屬空腔的斜腰側(cè)連接;所述介質(zhì)賦形透鏡包括沿介質(zhì)基板橫向和縱向分布的N*M個賦形單元,每個賦形單元的長度和寬度相等,每個賦形單元的高度用以下方式計算: 以頻移介質(zhì)透鏡的中心位置為坐標(biāo)原點,頻移介質(zhì)透鏡各賦形單元的相位分布滿足公式: ; 根據(jù)相位分布,計算出各個賦形單元的高度分布:; 式中,λ0為中心工作頻率對應(yīng)的真空波長,F(xiàn)為頻移介質(zhì)透鏡的焦距,為饋電陣列中心位置的坐標(biāo),α為直角梯形金屬空腔的斜腰底角,(xij,yij)為對應(yīng)賦形單元位于介質(zhì)基板所在平面的中心坐標(biāo),為天線中心工作頻率的波束指向,為頻移介質(zhì)透鏡所用介質(zhì)材料的介電常數(shù)。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)@麢?quán)人北京理工大學(xué);北京理工大學(xué)重慶微電子研究院,其通訊地址為:100081 北京市海淀區(qū)中關(guān)村南大街5號;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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