中國科學院上海技術物理研究所于清華獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉中國科學院上海技術物理研究所申請的專利一種物光復相干系數相位的絕對測量方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN116593013B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-12發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202310655489.5,技術領域涉及:G01J9/02;該發明授權一種物光復相干系數相位的絕對測量方法是由于清華設計研發完成,并于2023-06-05向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種物光復相干系數相位的絕對測量方法在說明書摘要公布了:本發明提出一種物光復相干系數相位的絕對測量方法,該方法首先對光學系統等效瞳面任意孔徑對干涉測量的條紋數據進行處理,獲得干涉條紋曲線干涉項,及其包絡和極值;其次,在曲線包絡零光程差的一側極值變化相對穩定區內的任意一個光強極大值A,在零光程另一側選取與極值A最接近的兩個極值光強值B和C,且滿足關系B>A≥C;再次,計算A和C之間的條紋周期個數;最后,根據條紋周期數,選擇公式解算被測信號的絕對相位。該方法原理簡單、不受儀器外部環境影響,適用范圍廣。
本發明授權一種物光復相干系數相位的絕對測量方法在權利要求書中公布了:1.一種物光復相干系數相位的絕對測量方法,其特征在于: 1利用干涉條紋干涉項極大值比較,其方法步驟如下: 第1步:光學系統等效瞳面上的任意一條基線兩端點P1,P2,對應的孔徑對接收的光信號,通過干涉耦合獲得干涉條紋; 第2步:對干涉條紋信號做去直流、去噪等處理,獲得干涉條紋干涉項曲線,以及其包絡和極值; 第3步:在干涉條紋的零光程一側主瓣內干涉信號極大值變化相對穩定的區間內的任意一個光強極大值A,在零光程另一側主瓣內干涉信號極值變化相對穩定的區間內的選取與極大值A最接近的兩個極值光強值B和C,且滿足關系B>A≥C; 第4步:計算A和C之間的條紋周期個數; 第5步:當條紋周期個數為偶數個時,計算得到被測信號的絕對相位 第6步:當條紋周期個數為奇數個時,計算得到被測信號的絕對相位 2利用干涉條紋干涉項極小值比較,其方法步驟如下: 第1步:光學系統等效瞳面上的任意一條基線兩端點P1,P2,對應的孔徑對接收的光信號,通過干涉耦合獲得干涉條紋; 第2步:對干涉條紋信號做去直流、去噪等處理,獲得干涉條紋干涉項曲線,以及其包絡和極值; 第3步:在干涉條紋的零光程一側主瓣內干涉信號極小值變化相對穩定的區間內的任意一個光強極小值A,在零光程另一側主瓣內干涉信號極值變化相對穩定的區間內的選取與極小值A最接近的兩個極值光強值B和C,且滿足關系C>A≥B; 第4步:計算A和C之間的條紋周期個數; 第5步:當條紋周期個數為奇數個時,計算得到被測信號的絕對相位 第6步:當條紋周期個數為偶數個時,計算得到被測信號的絕對相位
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