極光先進雷射株式會社田中智史獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉極光先進雷射株式會社申請的專利激光退火裝置和電子器件的制造方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN113632203B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-19發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:201980094700.2,技術領域涉及:H01L21/268;該發明授權激光退火裝置和電子器件的制造方法是由田中智史;鈴木章義;星野秀往設計研發完成,并于2019-05-31向國家知識產權局提交的專利申請。
本激光退火裝置和電子器件的制造方法在說明書摘要公布了:本公開的一個觀點的激光退火裝置構成為,對沿著被加工物的面內的第1方向和與第1方向垂直的第2方向中的至少第2方向排列的多個被加工區域統一照射激光,使統一照射區域和被加工物在第1方向上相對移動,進行掃描,該激光退火裝置具有:能量密度計測裝置,其計測統一照射區域的第2方向的第1端部和第2端部中的至少第2端部的能量密度;能量密度調整裝置,其對第1端部的能量密度進行調整;以及控制器,其根據能量密度計測裝置的計測結果對能量密度調整裝置進行控制,對第N+1掃描時的第1端部的能量密度進行調整,以使與第N掃描區域的第2端部相鄰的第N+1掃描區域的第1端部的能量密度接近所述第N掃描區域的所述第2端部的能量密度。
本發明授權激光退火裝置和電子器件的制造方法在權利要求書中公布了:1.一種激光退火裝置,其具有: 激光裝置,其輸出激光; 光學系統,其對沿著被加工物的面內的第1方向和與所述第1方向垂直的第2方向中的至少所述第2方向排列的多個被加工區域統一照射所述激光; 相對移動裝置,其使統一照射區域和所述被加工物在所述第1方向和所述第2方向上相對移動,該統一照射區域具有與進行所述統一照射的所述多個被加工區域的排列對應的所述激光的多個照射區域的排列;以及 控制器,其對所述激光裝置和所述相對移動裝置進行控制,以使得將N設為1以上的整數,在第N掃描時,在所述被加工物的第N掃描區域中執行使所述統一照射區域和所述被加工物在所述第1方向上相對移動的掃描,對第N掃描區域的沿著所述第1方向和所述第2方向呈格子狀排列的所述被加工區域分別照射所述激光,在所述第N掃描后,使所述統一照射區域和所述被加工物在所述第2方向上相對移動,將所述掃描的對象區域變更為第N+1掃描區域,在第N+1掃描時,在與所述被加工物的所述第N掃描區域相鄰且與所述第N掃描區域不重疊的所述第N+1掃描區域中執行所述掃描, 其中,所述激光退火裝置還具有: 能量密度計測裝置,其計測被照射于所述統一照射區域的所述第2方向的兩端部即第1端部和第2端部中的至少所述第2端部處的脈沖激光的能量密度;以及 能量密度調整裝置,其對被照射于所述統一照射區域的所述第1端部和所述第2端部中的至少所述第1端部處的脈沖激光的能量密度進行調整, 所述控制器根據所述能量密度計測裝置的計測結果對所述能量密度調整裝置進行控制,對執行所述第N+1掃描時的所述第1端部的能量密度進行調整,以使被照射于與所述第N掃描區域中的所述第2端部相鄰的所述第N+1掃描區域中的所述第1端部處的脈沖激光的能量密度接近被照射于所述第N掃描區域中的所述第2端部處的脈沖激光的能量密度。
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