東京毅力科創株式會社巖永修兒獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉東京毅力科創株式會社申請的專利基片檢查裝置、基片檢查系統和基片檢查方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113994255B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-09發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080039553.1，技術領域涉及：G03F1/84；該發明授權基片檢查裝置、基片檢查系統和基片檢查方法是由巖永修兒;西山直設計研發完成，并于2020-05-28向國家知識產權局提交的專利申請。
本基片檢查裝置、基片檢查系統和基片檢查方法在說明書摘要公布了：提供一種對基片進行檢查的基片檢查裝置，包括：取得部，其基于圖像估計模型和經基片處理裝置處理前的檢查對象基片的拍攝圖像，取得經所述基片處理裝置處理后的所述檢查對象基片的估計圖像，其中，所述圖像估計模型是使用多個基片各自的經所述基片處理裝置處理前的拍攝圖像和處理后的拍攝圖像通過機器學習而生成的；和判斷部，其基于經所述基片處理裝置處理后的所述檢查對象基片的拍攝圖像和所述估計圖像，判斷該檢查對象基片有無缺陷。
本發明授權基片檢查裝置、基片檢查系統和基片檢查方法在權利要求書中公布了：1.一種對基片進行檢查的基片檢查裝置，包括： 取得部，其基于圖像估計模型和經基片處理裝置處理前的檢查對象基片的拍攝圖像，取得經所述基片處理裝置處理后的所述檢查對象基片的估計圖像，其中，所述圖像估計模型是使用多個基片各自的經所述基片處理裝置處理前的拍攝圖像和處理后的拍攝圖像通過機器學習而生成的； 判斷部，其基于經所述基片處理裝置處理后的所述檢查對象基片的拍攝圖像和所述估計圖像，判斷該檢查對象基片有無缺陷； 生成部，其使用多個基片各自的經所述基片處理裝置處理前的拍攝圖像和處理后的拍攝圖像，通過機器學習生成圖像估計模型；和 選擇部，其選擇模型生成用的圖像對，該圖像對是由所述處理前的基片的拍攝圖像與所述處理后的基片的拍攝圖像的組合構成的拍攝圖像對， 所述選擇部基于異常度來選擇模型生成用的所述拍攝圖像對，其中，所述異常度是使用所述處理前的基片的拍攝圖像中的像素值的面內趨勢與所述處理后的基片的拍攝圖像中的像素值的面內趨勢之間的相關分布決定的。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人東京毅力科創株式會社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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