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龍圖騰網(wǎng)獲悉聯(lián)發(fā)科技股份有限公司申請的專利天線模塊及其制造方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN114389034B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-09發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202111215701.3，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01Q1/52；該發(fā)明授權(quán)天線模塊及其制造方法是由江忠信;陳俐妤;葉世晃設(shè)計研發(fā)完成，并于2021-10-19向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本天線模塊及其制造方法在說明書摘要公布了：一種天線模塊，包括：第一電介質(zhì)層，具有第一電介質(zhì)表面、與所述第一電介質(zhì)表面相對的第二電介質(zhì)表面以及在所述第一電介質(zhì)表面和所述第二電介質(zhì)表面之間延伸的第一電介質(zhì)側(cè)面；在所述第一電介質(zhì)表面上形成的第一天線層；在所述第二電介質(zhì)表面之下形成的接地層；以及在所述第一電介質(zhì)層的所述第一電介質(zhì)側(cè)面上形成的導(dǎo)電層，其中，所述導(dǎo)電層電連接至所述接地層，并且從所述接地層向所述第一天線層延伸，但是并不接觸所述第一電介質(zhì)表面。通過利用本發(fā)明，可以屏蔽電磁波的干擾。

本發(fā)明授權(quán)天線模塊及其制造方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種天線模塊，包括： 第一電介質(zhì)層，具有第一電介質(zhì)表面、與所述第一電介質(zhì)表面相對的第二電介質(zhì)表面以及在所述第一電介質(zhì)表面和所述第二電介質(zhì)表面之間延伸的第一電介質(zhì)側(cè)面； 在所述第一電介質(zhì)表面上形成的第一天線層； 在所述第二電介質(zhì)表面之下形成的接地層；以及 在所述第一電介質(zhì)層的所述第一電介質(zhì)側(cè)面上形成的導(dǎo)電層，其中，所述導(dǎo)電層電連接至所述接地層，并且從所述接地層向所述第一天線層延伸，但是并不接觸所述第一電介質(zhì)表面。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人聯(lián)發(fā)科技股份有限公司，其通訊地址為：中國臺灣新竹市新竹科學園區(qū)篤行一路一號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。