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龍圖騰網獲悉浙江工業大學申請的專利一種光學式氫氣傳感材料及其制備方法和對氫氣濃度進行光學響應檢測的方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115791658B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-09發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202211488700.0，技術領域涉及：G01N21/31；該發明授權一種光學式氫氣傳感材料及其制備方法和對氫氣濃度進行光學響應檢測的方法是由胡軍;郝勝杰;謝波;劉伊妮;錢浩宇;周興泉;毛稀兵;孫健設計研發完成，并于2022-11-25向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種光學式氫氣傳感材料及其制備方法和對氫氣濃度進行光學響應檢測的方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種光學式氫氣傳感材料及其制備方法和對氫氣濃度進行光學響應檢測的方法，該光學式氫氣傳感材料由Pd納米粒子密集排列組成非連續薄膜結構，其制備方法基于團簇束流沉積技術，在高透光石英片表面以低沉積速率沉積Pd納米粒子，構成無序納米粒子薄膜，具備一定的可見光吸光度。由于Pd納米粒子間相互作用能使粒子間通過激發的表面等離激元共振發生相互耦合，從而在光吸收譜上呈現顯著的等離激元共振峰，當Pd納米粒子可逆吸附氫氣時，光吸收譜線將依賴外界氫氣濃度而發生顯著的定量變化，從而實現氫氣傳感功能。該氫氣氣敏膜制備的關鍵點在于以合適的沉積速率進行Pd納米粒子沉積，形成特定的納米粒子組裝結構，獲得更加穩定的傳感器基線。

本發明授權一種光學式氫氣傳感材料及其制備方法和對氫氣濃度進行光學響應檢測的方法在權利要求書中公布了：1.一種利用光學式氫氣傳感材料對氫氣濃度進行光學響應檢測的方法，其特征在于所述光學式氫氣傳感材料，包括以高透光石英片為襯底以及附著于石英片表面的Pd納米粒子組裝薄膜，其制備方法是基于團簇束流沉積技術在高透光石英片表面以低沉積速率沉積Pd納米粒子，具體包括以下步驟： 1）將高純度Pd靶材放置在團簇束流沉積設備的濺射槍上，將高透光石英片襯底放置在團簇束流沉積系統的沉積室內，對整個裝置采取抽真空； 2）濺射槍上通入濺射氣，并向團簇束流沉積系統的濺射腔中通入緩沖氣； 3）對濺射槍通入3~12W的功率，控制Pd納米粒子的沉積速率在0.05~0.2?s，向石英襯底上沉積Pd納米粒子的時間為2500~3500s，使高透光石英片表面構成具有一定可見光吸光度的由無序Pd納米粒子密集排列組成的非連續薄膜結構，即得到氫氣氣敏膜； 所述Pd納米粒子組裝薄膜中，Pd納米粒子覆蓋率控制在30~60%； 所述檢測方法包括以下步驟： S1：將所述的光學式氫氣傳感材料置于氣敏測試腔內，打開光源和光譜儀，使光譜儀的可見光透過石英片，測量Pd納米粒子組裝薄膜的消光譜，在200~800nm范圍內測量光吸收譜，確定Pd納米粒子等離激元共振峰，繼而確定等離激元共振峰的波長位置； S2：對氣敏測試腔抽取真空，光學式氫氣傳感材料的Pd納米粒子組裝薄膜正對光源發射的可見入射光束，透射光則通過氣敏測試腔的窗口后進入光譜儀；然后向氣敏測試腔內充入特定氣壓的氫氣，此過程中，將光譜儀的測量波長設定于步驟S1得到的共振峰位置，按此方法測量透射光強度隨氫氣氣壓的變化，得到光學式氫氣傳感材料的透射光強隨氫氣氣壓的實時變化曲線，通過此曲線得到樣品在透光率與氫氣氣壓的關系； S3：在對實際氣體測定氫氣濃度時，按照步驟S2的方法測試實際氣體氣氛下的光學式氫氣傳感材料的透射光強，然后代入至步驟S2所得實時變化曲線中，推斷出實際氣體中的氫氣濃度。

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