株式會社國際電氣竹田剛獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉株式會社國際電氣申請的專利基板處理裝置、等離子體生成裝置、半導體裝置的制造方法、等離子體生成方法及存儲介質獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114342047B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-16發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201980099710.5，技術領域涉及：H01L21/31；該發明授權基板處理裝置、等離子體生成裝置、半導體裝置的制造方法、等離子體生成方法及存儲介質是由竹田剛;原大介設計研發完成，并于2019-09-02向國家知識產權局提交的專利申請。
本基板處理裝置、等離子體生成裝置、半導體裝置的制造方法、等離子體生成方法及存儲介質在說明書摘要公布了：本發明提供一種能夠降低針對多個基板的基板處理性能的偏差的技術。該技術具備：反應管，其具有處理基板的處理室和形成等離子體的緩沖室；以及加熱裝置，其對反應管進行加熱，在緩沖室具備：被施加高頻電力且長度不同的至少兩個施加電極；被賦予基準電位的基準電極；以及保護施加電極和基準電極的電極保護管。
本發明授權基板處理裝置、等離子體生成裝置、半導體裝置的制造方法、等離子體生成方法及存儲介質在權利要求書中公布了：1.一種基板處理裝置，其特征在于，具備： 處理室，其處理基板；以及 緩沖室，其形成等離子體， 在上述緩沖室具備：被施加高頻電力且相對于與上述基板的表面垂直的方向長度不同的至少兩個施加電極；以及被賦予基準電位的基準電極，該至少兩個施加電極以前端部相對于與上述基板的表面垂直的方向位于不同的位置的方式配置。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人株式會社國際電氣，其通訊地址為：日本東京都；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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