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龍圖騰網(wǎng)獲悉江蘇瀚葉銅鋁箔新材料研究院有限公司申請的專利銅鎳磁控濺射梯度復(fù)合集流體及其制備方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN118064835B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-09發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202410206200.6，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C23C14/20；該發(fā)明授權(quán)銅鎳磁控濺射梯度復(fù)合集流體及其制備方法是由李華清;張鵬超;馮連朋;馮巖;曹衛(wèi)建設(shè)計研發(fā)完成，并于2024-02-26向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本銅鎳磁控濺射梯度復(fù)合集流體及其制備方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明的目的在于揭示一種銅鎳磁控濺射梯度復(fù)合集流體及其制備方法，涉及集流體制備技術(shù)領(lǐng)域，包括載體層及分別磁控濺射于所述載體層兩面的第一磁控濺射層、n層磁控濺射銅鎳層及至少一層磁控濺射銅層，所述第一磁控濺射層為打底鎳層，所述n層磁控濺射銅鎳層為銅鎳混合層，其中2≤n≤10；所述銅鎳混合層中銅含量為X％，鎳含量為Y％，X％+Y％＝100％；從第一磁控濺射層到磁控濺射銅層方向，銅鎳混合層中的鎳含量梯度降低，銅鎳混合層中的銅含量梯度增加，有益效果：在載體層和磁控濺射銅層之間形成梯度的磁控濺射銅鎳層，使金屬過渡層形成金屬成分連續(xù)梯度變化的界面，由純鎳層梯度地過渡至純銅層，大幅提高載體層和其表面金屬層的結(jié)合力。

本發(fā)明授權(quán)銅鎳磁控濺射梯度復(fù)合集流體及其制備方法在權(quán)利要求書中公布了：1.銅鎳磁控濺射梯度復(fù)合集流體制備方法，其特征在于，包括以下步驟： 通過純鎳靶向載體層的第一面磁控濺射形成第一磁控濺射層； 先后通過n個銅鎳合金靶在第一面的第一磁控濺射層表面磁控濺射n層磁控濺射銅鎳層； 通過至少一個純銅靶在第一面的n層磁控濺射銅鎳層的表面磁控濺射至少一層磁控濺射銅層； 通過純鎳靶向載體層的第二面磁控濺射形成第一磁控濺射層； 先后通過n個銅鎳合金靶在第二面的第一磁控濺射層表面磁控濺射n層磁控濺射銅鎳層； 通過至少一個純銅靶在第二面的n層磁控濺射銅鎳層的表面磁控濺射至少一層磁控濺射銅層； 所述第一磁控濺射層為打底鎳層，所述n層磁控濺射銅鎳層為銅鎳混合層，所述第一磁控濺射層厚度為1nm-3nm，單層所述磁控濺射銅鎳層厚度為1nm-3nm，2≤n≤10；所述磁控濺射銅鎳層中銅含量為X%，鎳含量為Y%，X%+Y%=100%； 從所述第一磁控濺射層到磁控濺射銅層方向，所述n層磁控濺射銅鎳層中的鎳含量梯度降低，所述n層磁控濺射銅鎳層中的銅含量為梯度增加，所述n層磁控濺射銅鎳層形成金屬過渡層，金屬過渡層的總厚度為5nm-20nm；所述n層磁控濺射銅鎳層中的鎳含量梯度降低量為20%或25%； 所述載體層先后經(jīng)過放卷機構(gòu)、第一過渡輥、第一面磁控濺射單元、第二面磁控濺射單元、第二過渡輥及收卷機構(gòu)，完成雙面磁控濺射；在第一面磁控濺射單元先后設(shè)置純鎳靶、若干銅鎳合金靶及至少一個純銅靶，實現(xiàn)在第一面先后濺射第一磁控濺射層、n層磁控濺射銅鎳層及至少一層磁控濺射銅層；在第二面磁控濺射單元先后設(shè)置純鎳靶、若干銅鎳合金靶及至少一個純銅靶，實現(xiàn)在第二面先后濺射第一磁控濺射層、n層磁控濺射銅鎳層及至少一層磁控濺射銅層，最后收卷于收卷機構(gòu)。

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