原子高科股份有限公司王勇獲國家專利權(quán)

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龍圖騰網(wǎng)獲悉原子高科股份有限公司申請的專利一種用于放射性薄層掃描儀測量放化純的屏蔽裝置獲國家實(shí)用新型專利權(quán)，本實(shí)用新型專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN223320598U 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-09發(fā)布的實(shí)用新型授權(quán)公告中獲悉：該實(shí)用新型的專利申請?zhí)?專利號為：202420486523.0，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G01T7/00；該實(shí)用新型一種用于放射性薄層掃描儀測量放化純的屏蔽裝置是由王勇;范振亞;崔曉艷;劉倩楠;閆亞娟;趙巖;姜華;楊柳設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2024-03-13向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種用于放射性薄層掃描儀測量放化純的屏蔽裝置在說明書摘要公布了：本實(shí)用新型公開了一種用于放射性薄層掃描儀測量放化純的屏蔽裝置，包括：上方面板和左右兩側(cè)的屏蔽體；上方面板設(shè)有用于放置放射性薄層掃描儀檢測器探頭的通孔；左右兩側(cè)的屏蔽體對β、X和γ射線屏蔽。本實(shí)用新型的屏蔽裝置置于放射性薄層掃描儀探頭的正上方，待測樣品置于探頭下方的測量平臺上，測量過程是測量平臺以一定的速率移動，該屏蔽裝置可將未置于掃描儀探頭下方的其他區(qū)域的放射性射線屏蔽，可避免因輻射而導(dǎo)致的放射性檢測過程中的本底信號升高和放化純測量中的雜質(zhì)信號湮沒掉，提高放化純測量的真實(shí)性，提高了測量的準(zhǔn)確性。

本實(shí)用新型一種用于放射性薄層掃描儀測量放化純的屏蔽裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種用于放射性薄層掃描儀測量放化純的屏蔽裝置，其特征在于，包括：上方面板和左右兩側(cè)的屏蔽體；上方面板設(shè)有用于放置放射性薄層掃描儀檢測器探頭的通孔；左右兩側(cè)的屏蔽體對β、X和γ射線屏蔽。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人原子高科股份有限公司，其通訊地址為：102445 北京市房山區(qū)拱辰街道卓秀北街2號院4-2號樓2層201室；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。

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