武漢頤光科技有限公司石雅婷獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉武漢頤光科技有限公司申請的專利一種光學測量設備測量數據的修正方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN116105854B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-05發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202211644217.7,技術領域涉及:G01J1/00;該發明授權一種光學測量設備測量數據的修正方法是由石雅婷;劉亞鼎;張云;郭春付;李偉奇;張傳維;薛小汝;何勇設計研發完成,并于2022-12-20向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種光學測量設備測量數據的修正方法在說明書摘要公布了:本發明提供一種光學測量設備測量數據的修正方法,包括:獲取光學測量設備中的光學器件更換前后,測量的多個樣件在目標波段的測量光強數據;基于多個樣件在目標波段的測量光強數據,計算出每個樣件在每一幀數下目標波段的光強比值曲線、加權比值曲線以及修正比值曲線;基于修正比值曲線,對光學器件更換后的測量光強數據進行修正,得到修正后的測量光強數據。本發明通過器件更換前后的多個樣件的測量光強數據,得到各個幀數下的修正比值曲線,通過修正比值曲線將器件更換后的光強數據進行修正,使修正后的數據提取的膜厚以及復折射率等與更換器件前的膜厚以及復折射率等結果一致,減少因器件更換引入未知的難以表征的誤差。
本發明授權一種光學測量設備測量數據的修正方法在權利要求書中公布了:1.一種光學測量設備測量數據的修正方法,其特征在于,包括: 獲取光學測量設備中的光學器件更換前后,測量的多個樣件在目標波段的測量光強數據; 基于多個樣件在目標波段的測量光強數據,計算出每個樣件在每一幀數下目標波段的光強比值曲線,所述光強比值曲線為光學器件更換后的測量光強數據與光學器件更換前的測量光強數據之比; 對多個樣件在同一幀數下目標波段的光強比值曲線進行加權處理,得到每一幀數下目標波段的加權比值曲線; 對每一幀數下目標波段的加權比值曲線進行濾波處理,得到修正比值曲線; 基于所述修正比值曲線,對光學器件更換后的測量光強數據進行修正,得到修正后的測量光強數據。
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