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龍圖騰網(wǎng)獲悉財團法人工業(yè)技術研究院申請的專利光轉(zhuǎn)換材料及其制備方法獲國家發(fā)明授權專利權，本發(fā)明授權專利權由國家知識產(chǎn)權局授予，授權公告號為：CN116355608B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權局官網(wǎng)在2025-08-29發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉：該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為：202111623088.9，技術領域涉及：C09K11/02；該發(fā)明授權光轉(zhuǎn)換材料及其制備方法是由翁錦成;李明璋;許博榮設計研發(fā)完成，并于2021-12-28向國家知識產(chǎn)權局提交的專利申請。

本光轉(zhuǎn)換材料及其制備方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明公開一種光轉(zhuǎn)換材料及其制備方法，其中該光轉(zhuǎn)換材料包括：光轉(zhuǎn)換混摻顆粒、包覆光轉(zhuǎn)換混摻顆粒的第一包覆材料、以及形成于第一包覆材料上并包覆光轉(zhuǎn)換混摻顆粒的第二包覆材料。所述的光轉(zhuǎn)換混摻顆粒包含基質(zhì)，以及均勻地分散于基質(zhì)中的多個量子點。所述第一包覆材料包括氧化硅。所述第一包覆材料的FTIR的圖譜中，于939cm?1的吸亮度A939與于1000～1150cm?1的吸亮度峰值A1000～1150的比值α吸亮度比α：A939A1000～1150小于等于0.8。

本發(fā)明授權光轉(zhuǎn)換材料及其制備方法在權利要求書中公布了：1.一種光轉(zhuǎn)換材料，其包括： 光轉(zhuǎn)換混摻顆粒，其包含： 基質(zhì)，以及 多個量子點，均勻地分散于該基質(zhì)中，其中以該光轉(zhuǎn)換混摻顆粒的總重量為100wt％為基準，該基質(zhì)占30～60wt％，而該多個量子點占5～50wt％； 第一包覆材料，包覆該光轉(zhuǎn)換混摻顆粒；以及 第二包覆材料，形成于該第一包覆材料上并包覆該第一包覆材料且厚度為10～40nm； 其中該第一包覆材料包括氧化硅，且該第一包覆材料的傅立葉變換紅外光譜的圖譜中，于939cm-1的吸亮度A939與于1000～1150cm-1的吸亮度峰值A1000～1150的比值α吸亮度比α：A939A1000～1150大于等于0.65且小于等于0.8。

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