國際商業機器公司J·馬尼斯卡爾科獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉國際商業機器公司申請的專利具有注入鈷的釕襯里和鈷蓋帽的互連結構獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115066749B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-26發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202180012703.4，技術領域涉及：H01L23/532；該發明授權具有注入鈷的釕襯里和鈷蓋帽的互連結構是由J·馬尼斯卡爾科;本山幸一;O·范德斯特拉滕;S·德夫里;A·雷茨尼采克設計研發完成，并于2021-01-12向國家知識產權局提交的專利申請。
本具有注入鈷的釕襯里和鈷蓋帽的互連結構在說明書摘要公布了：一種互連結構及其形成方法，包括在介電層內形成凹槽，并在凹槽內保形沉積阻擋層。在阻擋層上方形成注入鈷的釕襯里，通過在第一襯里上方堆疊第二襯里來形成含鈷的釕襯里，第一襯里位于阻擋層上方。第一襯里包括釕，而第二襯里包括鈷。鈷原子從第二襯里遷移到第一襯里，形成注入鈷的釕襯里。在注入鈷的釕襯里上方沉積導電材料以填充凹槽，隨后沉積由鈷制成的覆蓋層。
本發明授權具有注入鈷的釕襯里和鈷蓋帽的互連結構在權利要求書中公布了：1.一種形成互連結構的方法，包括： 在介電層內形成凹槽； 在所述凹槽內保形地沉積阻擋層； 在所述阻擋層上方形成注入鈷的釕襯里，含鈷的釕襯里包括： 在所述阻擋層上方的第一襯里，所述第一襯里包括釕；以及 在所述第一襯里上方的第二襯里，所述第二襯里包含鈷； 在所述第二襯里上方的第三襯里，所述第三襯里包括釕，其中鈷原子從所述第二襯里到所述第一襯里和所述第三襯里的遷移形成注入鈷的釕襯里，其中所述注入鈷的釕襯里減小覆蓋層與所述注入鈷的釕襯里之間的濃度梯度用于防止鈷原子從所述覆蓋層擴散； 在所述注入鈷的釕襯里上方沉積導電材料以填充所述凹槽；以及 在所述導電材料的頂表面上方形成覆蓋層，所述覆蓋層包括鈷。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人國際商業機器公司，其通訊地址為：美國紐約；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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