日鐵新材料股份有限公司;日鐵化學材料株式會社山田隆獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉日鐵新材料股份有限公司;日鐵化學材料株式會社申請的專利Al接合線獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN113557596B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-05發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202080020170.X,技術領域涉及:H01L21/60;該發明授權Al接合線是由山田隆;西林景仁;榛原照男;小田大造;江藤基稀;小山田哲哉;小林孝之;宇野智裕設計研發完成,并于2020-03-12向國家知識產權局提交的專利申請。
本Al接合線在說明書摘要公布了:提供一種Al接合線,其在使用Al接合線的半導體裝置工作的高溫狀態下,充分地得到接合線的接合部的接合可靠性。該Al接合線的特征在于,由Al或Al合金構成,垂直于導線軸的方向的芯材截面中的平均晶粒直徑為0.01~50μm,在對于垂直于導線軸的方向的芯材截面測量晶體取向的結果中,導線長度方向的晶體取向之中,相對于導線長度方向角度差為15°以下的晶體取向<111>的取向比率為30~90%。
本發明授權Al接合線在權利要求書中公布了:1.一種Al接合線,其特征在于, 由Al或Al合金構成,Al含量為95質量%以上,垂直于導線軸的方向的截面中的平均晶粒直徑為0.01~50μm,所述平均晶粒直徑使用EBSD的測量方法求得各晶粒的面積,采用將各晶粒的面積視為圓時的直徑的平均, 在對于垂直于導線軸的方向的截面測量晶體取向的結果中,導線長度方向的晶體取向之中,相對于導線長度方向角度差為15°以下的晶體取向<111>的取向比率為30~90%,晶體取向<111>的取向比率的測量中使用EBSD,將垂直于導線軸的方向的芯材截面作為檢查面,利用附屬于裝置的解析軟件,計算晶體取向<111>的取向比率, 導線線徑為50~600μm。
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