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龍圖騰網(wǎng)獲悉上海智能制造功能平臺(tái)有限公司申請(qǐng)的專(zhuān)利電弧加工沖液分流與導(dǎo)向機(jī)構(gòu)獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN115302023B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-26發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?專(zhuān)利號(hào)為：202211050293.5，技術(shù)領(lǐng)域涉及：B23H1/00；該發(fā)明授權(quán)電弧加工沖液分流與導(dǎo)向機(jī)構(gòu)是由顧琳;楊逸飛;何國(guó)健;趙萬(wàn)生設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2022-08-31向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專(zhuān)利申請(qǐng)。

本電弧加工沖液分流與導(dǎo)向機(jī)構(gòu)在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本發(fā)明公開(kāi)電弧加工沖液分流與導(dǎo)向機(jī)構(gòu)，涉及電弧加工技術(shù)領(lǐng)域，包括殼體、主動(dòng)機(jī)構(gòu)、從動(dòng)機(jī)構(gòu)、分流機(jī)構(gòu)和電極；主動(dòng)機(jī)構(gòu)用于驅(qū)動(dòng)從動(dòng)機(jī)構(gòu)；從動(dòng)機(jī)構(gòu)用于驅(qū)動(dòng)電極；殼體上設(shè)置有沖液入口，沖液入口與電極頂部之間設(shè)置有分流機(jī)構(gòu)，電極上設(shè)置有多個(gè)貫通的內(nèi)孔，分流機(jī)構(gòu)用于控制沖液進(jìn)入不同的內(nèi)孔。電機(jī)直連分流塊進(jìn)行角度控制，分流塊的轉(zhuǎn)動(dòng)能夠更加精確、快速。通過(guò)導(dǎo)向擋板將部分內(nèi)沖液引流至電極與工件接觸位置，增強(qiáng)流體沖刷電弧的沖擊力；導(dǎo)向擋板下層使用絕緣材料制成，避免有害放電。分流和導(dǎo)向功能均作用于內(nèi)沖液，對(duì)內(nèi)沖液的合理且有效的控制方案可以幫助電弧技術(shù)在復(fù)雜形貌加工中進(jìn)行實(shí)踐，防止有害弧柱對(duì)工件和電極的損傷。

本發(fā)明授權(quán)電弧加工沖液分流與導(dǎo)向機(jī)構(gòu)在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.電弧加工沖液分流與導(dǎo)向機(jī)構(gòu)，其特征在于，包括殼體、主動(dòng)機(jī)構(gòu)、從動(dòng)機(jī)構(gòu)、分流機(jī)構(gòu)和電極；所述主動(dòng)機(jī)構(gòu)用于驅(qū)動(dòng)所述從動(dòng)機(jī)構(gòu)；所述從動(dòng)機(jī)構(gòu)用于驅(qū)動(dòng)所述電極；所述殼體上設(shè)置有沖液入口，所述沖液入口與所述電極頂部之間設(shè)置有所述分流機(jī)構(gòu)，所述電極上設(shè)置有多個(gè)貫通的內(nèi)孔，所述分流機(jī)構(gòu)用于控制沖液進(jìn)入不同的所述內(nèi)孔； 所述分流機(jī)構(gòu)包括電機(jī)、電機(jī)支撐架、聯(lián)軸器、分流塊、第四滾動(dòng)軸承和油封；所述電機(jī)通過(guò)所述電機(jī)支撐架設(shè)置于所述殼體上，所述電機(jī)的輸出軸通過(guò)所述聯(lián)軸器與所述分流塊相連接，所述分流塊與所述殼體之間設(shè)置有所述第四滾動(dòng)軸承和所述油封，所述油封用于密封所述分流塊與所述殼體之間的間隙； 還包括導(dǎo)向機(jī)構(gòu)，所述導(dǎo)向機(jī)構(gòu)包括導(dǎo)向擋板下層，所述導(dǎo)向擋板下層的下端與所述電極的底部保持一定間距，所述導(dǎo)向擋板下層能夠包裹住部分的所述電極。

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