北京工業大學李光耀獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉北京工業大學申請的專利一種水合物沉積物孔隙結構表征方法、電子處理模塊及存儲介質獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115760787B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-26發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202211464843.8,技術領域涉及:G06T7/00;該發明授權一種水合物沉積物孔隙結構表征方法、電子處理模塊及存儲介質是由李光耀;張志紅;杜修力設計研發完成,并于2022-11-22向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種水合物沉積物孔隙結構表征方法、電子處理模塊及存儲介質在說明書摘要公布了:本申請涉及一種水合物沉積物孔隙結構表征方法、電子處理模塊及存儲介質,所述方法包括步驟:獲取不含水合物的沉積物對應的第一離散元顆粒集合體;根據水合物賦存模式獲取水合物對應的第二離散元顆粒集合體;分別生成所述第一離散元顆粒集合體對應的第一二值化數據集和所述第二離散元顆粒集合體對應的第二二值化數據集;根據所述水合物賦存模式對所述第一二值化數據集和所述第二二值化數據集進行疊加運算并生成第三二值化數據集;利用所述第三二值化數據集計算水合物沉積物孔隙結構表征參數。本申請可以生成指定賦存模式及含量下的水合物,克服了傳統方法中水合物賦存模式的不確定性,從而使定量分析水合物賦存模式對孔隙結構和滲透性能的影響成為可能。
本發明授權一種水合物沉積物孔隙結構表征方法、電子處理模塊及存儲介質在權利要求書中公布了:1.一種水合物沉積物孔隙結構表征方法,其特征在于,所述方法包括步驟: 獲取不含水合物的沉積物對應的第一離散元顆粒集合體; 根據水合物賦存模式獲取水合物對應的第二離散元顆粒集合體; 分別生成所述第一離散元顆粒集合體對應的第一二值化數據集和所述第二離散元顆粒集合體對應的第二二值化數據集; 根據所述水合物賦存模式對所述第一二值化數據集和所述第二二值化數據集進行疊加運算并生成第三二值化數據集; 利用所述第三二值化數據集計算水合物沉積物孔隙結構表征參數; 所述根據水合物賦存模式獲取水合物對應的第二離散元顆粒集合體包括步驟: 判斷所述水合物賦存模式是否為預設模式; 若是,根據所述第一離散元顆粒集合體生成所述第二離散元顆粒集合體; 若否,利用離散元法生成未固結的顆粒集合體作為所述第二離散元顆粒集合體; 所述根據所述第一離散元顆粒集合體生成所述第二離散元顆粒集合體包括步驟: 將所述第一離散元顆粒集合體中所有顆粒的半徑乘以大于1的系數K并得到所述第二離散元顆粒集合體; 所述分別生成所述第一離散元顆粒集合體對應的第一二值化數據集和所述第二離散元顆粒集合體對應的第二二值化數據集包括步驟: 提取所述第一離散元顆粒集合體中所有第一顆粒的位置信息和所述第二離散元顆粒集合體中所有第二顆粒的位置信息; 根據所述第一顆粒的位置信息對所述第一離散元顆粒集合體進行切片截圖處理并得到第一切片截圖; 根據所述第二顆粒的位置信息對所述第二離散元顆粒集合體進行切片截圖處理并得到第二切片截圖; 分別對所述第一切片截圖和所述第二切片截圖進行二值化處理并得到所述第一二值化數據集和所述第二二值化數據集。
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