中國科學院蘭州化學物理研究所王德生獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉中國科學院蘭州化學物理研究所申請的專利一種潤滑薄膜及其制備方法和應用獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116815143B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-22發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202310790196.8，技術領域涉及：C23C14/35；該發明授權一種潤滑薄膜及其制備方法和應用是由王德生;胡明;郭龍幫;王琴琴;伏彥龍;姜棟;趙旭;劉志魯;高曉明;孫嘉奕;翁立軍設計研發完成，并于2023-06-30向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種潤滑薄膜及其制備方法和應用在說明書摘要公布了：本發明涉及機械潤滑技術領域，尤其涉及一種潤滑薄膜及其制備方法和應用。本發明提供的制備方法，包括以下步驟：將基體進行Ar離子轟擊處理，得到預處理后的基體；在所述預處理后的基體表面重復循環沉積MoS2薄膜和N等離子體鈍化處理，得到所述潤滑薄膜。本發明所述制備方法以微量N元素的引入形成其對薄膜中S空位形成的懸掛鍵鈍化效應，且薄膜呈納米晶致密結構，具有良好的化學穩定性。根據實施例的記載，本發明提供的潤滑薄膜的真空摩擦系數低于0.03，潤滑壽命高于5.0×105r，并在大氣條件下亦具有良好的潤滑性能。
本發明授權一種潤滑薄膜及其制備方法和應用在權利要求書中公布了：1.一種潤滑薄膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟： 將基體進行Ar離子轟擊處理，得到預處理后的基體； 在所述預處理后的基體表面重復循環沉積MoS2薄膜和N等離子體鈍化處理，得到所述潤滑薄膜； 所述沉積MoS2薄膜后得到的MoS2薄膜的厚度為100～300nm； 所述N等離子體鈍化處理的工作氣體為氮氣和氬氣，所述工作氣體的氣壓為0.3～0.8Pa，氮氣與氬氣的流量比為0.1～0.3，輔助燈絲加熱電流為180A，等離子體源電流為30～60A，偏壓為-50～-200V，時間為5～10min； 所述潤滑薄膜為N元素摻雜的MoS2潤滑薄膜，所述潤滑薄膜中S與Mo的原子比為1.65～1.70：1。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人中國科學院蘭州化學物理研究所，其通訊地址為：730000 甘肅省蘭州市城關區天水中路18號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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