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          • 本申請(qǐng)涉及順序?qū)懭氲拇鎯?chǔ)器裝置的有效存儲(chǔ)分配。由處理裝置接收指向具有存儲(chǔ)器單元的多個(gè)存儲(chǔ)器裝置的輸入/輸出I/O寫入請(qǐng)求。所述寫入請(qǐng)求包含數(shù)據(jù)集。所述處理裝置將所述數(shù)據(jù)集附加到復(fù)合數(shù)據(jù)對(duì)象。所述復(fù)合數(shù)據(jù)對(duì)象包括一或多個(gè)順序?qū)懭氲臄?shù)據(jù)對(duì)象。所...
          • 本發(fā)明公開(kāi)了一種組隊(duì)匹配方法、裝置和存儲(chǔ)介質(zhì)及電子設(shè)備。其中,該方法包括:顯示位于目標(biāo)虛擬游戲的目標(biāo)隊(duì)伍中的第一賬號(hào);獲取所述目標(biāo)虛擬游戲中的至少一個(gè)第二賬號(hào)的賬號(hào)信息,其中,賬號(hào)信息包括以下至少之一:登陸狀態(tài)、游戲進(jìn)度狀態(tài)、與第一賬號(hào)之間...
          • 本發(fā)明提供了一種蛋白?蛋白相互作用調(diào)節(jié)劑及應(yīng)用,將靶向p53?MDM2肽調(diào)節(jié)劑(稱作CPAP)進(jìn)行同源二聚體連接,CPAP同源二聚化可以將其親和力提高兩個(gè)數(shù)量級(jí);本發(fā)明通過(guò)綜合分析結(jié)合焓的變化以及平移熵和旋轉(zhuǎn)熵的損失,建立了一種全新的統(tǒng)計(jì)力...
          • 本公開(kāi)提供了用于將工藝氣體注入腔室的柵組件,包括:氣體入口,用于將工藝氣體輸送到柵組件;多個(gè)噴嘴,豎直延伸貫通整個(gè)柵組件;以及多個(gè)層,豎直堆疊布置,多個(gè)層包括:頂層,包括被配置為從氣體入口接收工藝氣體的一個(gè)或多個(gè)內(nèi)部氣體注入通道;底層,包括...
          • 本發(fā)明涉及防水條技術(shù)領(lǐng)域,更具體的說(shuō)是一種防水條加工方法。為便于防水條的安裝,使用一種出料組件,其包括對(duì)擠出料進(jìn)行定型的引料結(jié)構(gòu),以及插接在引料結(jié)構(gòu)上的模型構(gòu)件,模型構(gòu)件進(jìn)入引料結(jié)構(gòu)能夠在擠出料上加工出凹槽。加工時(shí)的步驟為:步驟一、將混合后...
          • 本公開(kāi)描述了從FP16轉(zhuǎn)換到BF8的指令。示例性實(shí)施例對(duì)單個(gè)指令解碼,該單個(gè)指令包括:用于標(biāo)識(shí)第一源操作對(duì)象的一個(gè)或多個(gè)字段;用于標(biāo)識(shí)第二源操作對(duì)象的一個(gè)或多個(gè)字段;用于標(biāo)識(shí)源/目的地操作對(duì)象的一個(gè)或多個(gè)字段;以及用于操作碼的一個(gè)或多個(gè)字段...
          • 本申請(qǐng)涉及用于主機(jī)接口的隊(duì)列配置。一種設(shè)備可包含主機(jī)系統(tǒng),所述主機(jī)系統(tǒng)包含具有第一條目的第一循環(huán)隊(duì)列,所述第一條目指示用于存儲(chǔ)器系統(tǒng)的第一命令和與所述第一命令相關(guān)聯(lián)的數(shù)據(jù)的位置。所述設(shè)備可包含控制器,所述控制器可存取第一循環(huán)隊(duì)列的第一條目且...
          • 本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N顯示面板及其制造方法,顯示面板包括:襯底基板和設(shè)置于襯底基板上的薄膜晶體管層,薄膜晶體管層包括層間介質(zhì)層和設(shè)置于層間介質(zhì)層上的金屬層,金屬層包括多個(gè)間隔設(shè)置的金屬電極;其中,層間介質(zhì)層包括基體介質(zhì)層和位于基體介質(zhì)層上的非絕緣介...
          • 本發(fā)明公開(kāi)用于在通過(guò)蜂窩式網(wǎng)絡(luò)的數(shù)據(jù)通信期間,改善網(wǎng)絡(luò)節(jié)點(diǎn)與基站之間的連接性的方法和系統(tǒng)。所述網(wǎng)絡(luò)節(jié)點(diǎn)包括第一多個(gè)無(wú)線通信模塊(WCM)。所述方法包含由所述網(wǎng)絡(luò)節(jié)點(diǎn)識(shí)別連接到第二多個(gè)WCM的第一基站。所述第二多個(gè)WCM包含所述第一多個(gè)WCM...
          • 本發(fā)明公開(kāi)了一種制作電子裝置的方法,包括提供基板。再提供多個(gè)電子單元。多個(gè)電子單元的每一個(gè)具有芯片與至少一接合端子。再經(jīng)由至少一接合端子將多個(gè)電子單元的每一個(gè)接合于基板上。再將黏著材料施加于位于芯片與基板之間的空間中及兩個(gè)相鄰的多個(gè)電子單元...
          • 通式(a)或(b)的N?雜環(huán)化合物作為硝化抑制劑的用途,在通式(a)或(b)中:X1為S或O,X2為S或O,且X1和X2中的至少一個(gè)是S;R2...
          • 通式(a)或(b)的N?雜環(huán)化合物作為硝化抑制劑的用途,在通式(a)或(b)中:X1為S或O,X2為S或O,且X1和X2中的至少一個(gè)是S;R2...
          • 本發(fā)明涉及一種鈷及鎳的分離方法。本發(fā)明的方法包括:熱處理工序(S1),加熱鋰離子二次電池而進(jìn)行熱處理;粉碎分選工序(S2),對(duì)熱處理后的鋰離子二次電池進(jìn)行粉碎及分級(jí),獲得至少含有鈷、鎳、銅及鋰的電極材料;浸出工序(S3),將電極材料浸漬于含...
          • 本發(fā)明適用于清潔器具技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明公開(kāi)一種清潔頭結(jié)構(gòu),用于清潔設(shè)備,包括清潔頭主體和與清潔頭主體轉(zhuǎn)動(dòng)連接的滾筒,所述清潔頭主體與滾筒之間設(shè)有刮水機(jī)構(gòu),該刮水機(jī)構(gòu)設(shè)有將清潔時(shí)從滾筒上刮下的水進(jìn)行分開(kāi)的清理構(gòu)件。所述清潔設(shè)備用清潔頭結(jié)構(gòu)在使用...
          • 本發(fā)明提供一種激光加工裝置以及激光加工裝置的光學(xué)調(diào)整方法,該激光加工裝置具備:激光射出部,射出用于對(duì)被加工物進(jìn)行加工的激光;測(cè)定光射出部,射出用于對(duì)被加工物中的激光的照射位置進(jìn)行測(cè)定的測(cè)定光;相對(duì)位置導(dǎo)出部,導(dǎo)出測(cè)定光的光軸相對(duì)于激光的光軸...
          • 本發(fā)明實(shí)施例提供一種太陽(yáng)能電池及光伏組件,太陽(yáng)能電池包括第一區(qū)域和第二區(qū)域,且包括:基底和隧穿層,所述基底具有第一表面和第二表面,所述隧穿層覆蓋所述第二表面;第一發(fā)射極,所述第一發(fā)射極位于所述第一區(qū)域的所述隧穿層上;第二發(fā)射極,所述第二發(fā)射...
          • 本申請(qǐng)涉及處理方法、半導(dǎo)體器件的制造方法、處理裝置及程序制品。提供提高用膜填埋凹部?jī)?nèi)時(shí)的埋入特性的技術(shù)。具有:(a)向表面設(shè)有凹部的襯底供給前處理氣體,從而在凹部?jī)?nèi)的至少上部形成與成膜阻礙劑的反應(yīng)性比該成膜阻礙劑與凹部?jī)?nèi)的表面的反應(yīng)性高的基...
          • 本發(fā)明提供能夠減少所占空間的收納裝置、基片處理系統(tǒng)和消耗部件的輸送方法。收納裝置包括載置臺(tái)、傳感器、旋轉(zhuǎn)部、收納部和升降部。載置臺(tái)載置消耗部件。傳感器檢測(cè)消耗部件的方向。旋轉(zhuǎn)部基于由傳感器檢測(cè)出的消耗部件的方向,使消耗部件向規(guī)定的方向旋轉(zhuǎn)。...
          • 本發(fā)明提供了用于動(dòng)態(tài)增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)的系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括一個(gè)或更多個(gè)處理器以及非暫態(tài)計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì),該非暫態(tài)計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)包括指令,該指令在由所述一個(gè)或更多個(gè)處理器執(zhí)行時(shí)使得所述一個(gè)或更多個(gè)處理器執(zhí)行包括以下的操作:在后端服務(wù)器處,檢測(cè)從在設(shè)...
          • 提供一種具有在用于觸摸面板時(shí)的輕快的操作性以及優(yōu)異的筆滑動(dòng)耐久性的透明導(dǎo)電性薄膜。是在透明塑料薄膜基材上的至少一面?zhèn)葘盈B了銦?錫復(fù)合氧化物的透明導(dǎo)電膜的透明導(dǎo)電性薄膜,通過(guò)特定的輸入載荷試驗(yàn)方法而得到的透明導(dǎo)電性薄膜的輸入開(kāi)始載荷為3g以上...
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