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最新專利技術

組隊匹配方法、存儲介質(zhì)和電子設備

本發(fā)明公開了一種組隊匹配方法、裝置和存儲介質(zhì)及電子設備。其中，該方法包括：顯示位于目標虛擬游戲的目標隊伍中的第一賬號；獲取所述目標虛擬游戲中的至少一個第二賬號的賬號信息，其中，賬號信息包括以下至少之一：登陸狀態(tài)、游戲進度狀態(tài)、與第一賬號之間...

2025-09-08
一種蛋白-蛋白相互作用調(diào)節(jié)劑及應用

本發(fā)明提供了一種蛋白?蛋白相互作用調(diào)節(jié)劑及應用，將靶向p53?MDM2肽調(diào)節(jié)劑(稱作CPAP)進行同源二聚體連接，CPAP同源二聚化可以將其親和力提高兩個數(shù)量級；本發(fā)明通過綜合分析結(jié)合焓的變化以及平移熵和旋轉(zhuǎn)熵的損失，建立了一種全新的統(tǒng)計力...

2025-09-08
等離子體處理裝置的柵組件

本公開提供了用于將工藝氣體注入腔室的柵組件，包括：氣體入口，用于將工藝氣體輸送到柵組件；多個噴嘴，豎直延伸貫通整個柵組件；以及多個層，豎直堆疊布置，多個層包括：頂層，包括被配置為從氣體入口接收工藝氣體的一個或多個內(nèi)部氣體注入通道；底層，包括...

2025-09-08
一種防水條加工方法

本發(fā)明涉及防水條技術領域，更具體的說是一種防水條加工方法。為便于防水條的安裝，使用一種出料組件，其包括對擠出料進行定型的引料結(jié)構(gòu)，以及插接在引料結(jié)構(gòu)上的模型構(gòu)件，模型構(gòu)件進入引料結(jié)構(gòu)能夠在擠出料上加工出凹槽。加工時的步驟為：步驟一、將混合后...

2025-09-08
從FP16轉(zhuǎn)換到BF8的指令

本公開描述了從FP16轉(zhuǎn)換到BF8的指令。示例性實施例對單個指令解碼，該單個指令包括：用于標識第一源操作對象的一個或多個字段；用于標識第二源操作對象的一個或多個字段；用于標識源/目的地操作對象的一個或多個字段；以及用于操作碼的一個或多個字段...

2025-09-08
用于主機接口的隊列配置

本申請涉及用于主機接口的隊列配置。一種設備可包含主機系統(tǒng)，所述主機系統(tǒng)包含具有第一條目的第一循環(huán)隊列，所述第一條目指示用于存儲器系統(tǒng)的第一命令和與所述第一命令相關聯(lián)的數(shù)據(jù)的位置。所述設備可包含控制器，所述控制器可存取第一循環(huán)隊列的第一條目且...

2025-09-08
一種顯示面板

本申請?zhí)峁┮环N顯示面板及其制造方法，顯示面板包括：襯底基板和設置于襯底基板上的薄膜晶體管層，薄膜晶體管層包括層間介質(zhì)層和設置于層間介質(zhì)層上的金屬層，金屬層包括多個間隔設置的金屬電極；其中，層間介質(zhì)層包括基體介質(zhì)層和位于基體介質(zhì)層上的非絕緣介...

2025-09-08
用于改善數(shù)據(jù)傳輸?shù)姆椒ê驮O備

本發(fā)明公開用于在通過蜂窩式網(wǎng)絡的數(shù)據(jù)通信期間，改善網(wǎng)絡節(jié)點與基站之間的連接性的方法和系統(tǒng)。所述網(wǎng)絡節(jié)點包括第一多個無線通信模塊(WCM)。所述方法包含由所述網(wǎng)絡節(jié)點識別連接到第二多個WCM的第一基站。所述第二多個WCM包含所述第一多個WCM...

2025-09-08
制作電子裝置的方法

本發(fā)明公開了一種制作電子裝置的方法，包括提供基板。再提供多個電子單元。多個電子單元的每一個具有芯片與至少一接合端子。再經(jīng)由至少一接合端子將多個電子單元的每一個接合于基板上。再將黏著材料施加于位于芯片與基板之間的空間中及兩個相鄰的多個電子單元...

2025-09-08
N-雜環(huán)化合物用作硝化抑制劑

通式(a)或(b)的N?雜環(huán)化合物作為硝化抑制劑的用途，在通式(a)或(b)中：X¹為S或O，X²為S或O，且X¹和X²中的至少一個是S；R^2...

2025-09-08
N-雜環(huán)化合物用作硝化抑制劑

通式(a)或(b)的N?雜環(huán)化合物作為硝化抑制劑的用途，在通式(a)或(b)中：X¹為S或O，X²為S或O，且X¹和X²中的至少一個是S；R^2...

2025-09-08
鈷及鎳的分離方法

本發(fā)明涉及一種鈷及鎳的分離方法。本發(fā)明的方法包括：熱處理工序(S1)，加熱鋰離子二次電池而進行熱處理；粉碎分選工序(S2)，對熱處理后的鋰離子二次電池進行粉碎及分級，獲得至少含有鈷、鎳、銅及鋰的電極材料；浸出工序(S3)，將電極材料浸漬于含...

2025-09-08
一種清潔頭結(jié)構(gòu)

本發(fā)明適用于清潔器具技術領域。本發(fā)明公開一種清潔頭結(jié)構(gòu)，用于清潔設備，包括清潔頭主體和與清潔頭主體轉(zhuǎn)動連接的滾筒，所述清潔頭主體與滾筒之間設有刮水機構(gòu)，該刮水機構(gòu)設有將清潔時從滾筒上刮下的水進行分開的清理構(gòu)件。所述清潔設備用清潔頭結(jié)構(gòu)在使用...

2025-09-08
激光加工裝置以及激光加工裝置的光學調(diào)整方法

本發(fā)明提供一種激光加工裝置以及激光加工裝置的光學調(diào)整方法，該激光加工裝置具備：激光射出部，射出用于對被加工物進行加工的激光；測定光射出部，射出用于對被加工物中的激光的照射位置進行測定的測定光；相對位置導出部，導出測定光的光軸相對于激光的光軸...

2025-09-08
太陽能電池及光伏組件

本發(fā)明實施例提供一種太陽能電池及光伏組件，太陽能電池包括第一區(qū)域和第二區(qū)域，且包括：基底和隧穿層，所述基底具有第一表面和第二表面，所述隧穿層覆蓋所述第二表面；第一發(fā)射極，所述第一發(fā)射極位于所述第一區(qū)域的所述隧穿層上；第二發(fā)射極，所述第二發(fā)射...

2025-09-08
處理方法、半導體器件的制造方法、處理裝置及程序制品

本申請涉及處理方法、半導體器件的制造方法、處理裝置及程序制品。提供提高用膜填埋凹部內(nèi)時的埋入特性的技術。具有：(a)向表面設有凹部的襯底供給前處理氣體，從而在凹部內(nèi)的至少上部形成與成膜阻礙劑的反應性比該成膜阻礙劑與凹部內(nèi)的表面的反應性高的基...

2025-09-08
基片處理系統(tǒng)和收納裝置

本發(fā)明提供能夠減少所占空間的收納裝置、基片處理系統(tǒng)和消耗部件的輸送方法。收納裝置包括載置臺、傳感器、旋轉(zhuǎn)部、收納部和升降部。載置臺載置消耗部件。傳感器檢測消耗部件的方向。旋轉(zhuǎn)部基于由傳感器檢測出的消耗部件的方向，使消耗部件向規(guī)定的方向旋轉(zhuǎn)。...

2025-09-08
用于動態(tài)增強現(xiàn)實的系統(tǒng)

本發(fā)明提供了用于動態(tài)增強現(xiàn)實的系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括一個或更多個處理器以及非暫態(tài)計算機可讀存儲介質(zhì)，該非暫態(tài)計算機可讀存儲介質(zhì)包括指令，該指令在由所述一個或更多個處理器執(zhí)行時使得所述一個或更多個處理器執(zhí)行包括以下的操作：在后端服務器處，檢測從在設...

2025-09-08
透明導電性薄膜

提供一種具有在用于觸摸面板時的輕快的操作性以及優(yōu)異的筆滑動耐久性的透明導電性薄膜。是在透明塑料薄膜基材上的至少一面?zhèn)葘盈B了銦?錫復合氧化物的透明導電膜的透明導電性薄膜，通過特定的輸入載荷試驗方法而得到的透明導電性薄膜的輸入開始載荷為3g以上...

2025-09-08
針對附加SRS的SRS載波切換

本申請涉及針對附加SRS的SRS載波切換。提供了用于SRS的方法、裝置和計算機可讀介質(zhì)。示例UE可接收SRS配置和調(diào)度上行鏈路傳輸?shù)南滦墟溌穫鬏敚撋闲墟溌穫鬏敱徽{(diào)度在CC上，該SRS配置包括相對于與非周期性觸發(fā)類型1或周期性觸發(fā)類型0相關...

2025-09-08

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