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                  		攝影電影;光學(xué)設(shè)備的制造及其處理,應(yīng)用技術(shù)
                  	
                  
          
                
          
                
          
                    
            
					
						
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								      本公開(kāi)的方面一般涉及數(shù)字平版印刷系統(tǒng)和用于利用數(shù)字平版印刷系統(tǒng)對(duì)準(zhǔn)分辨率的方法。數(shù)字平版印刷系統(tǒng)包括被配置為改進(jìn)平版印刷處理的不同層的重迭對(duì)準(zhǔn)的計(jì)量系統(tǒng)。計(jì)量系統(tǒng)包括在線計(jì)量系統(tǒng)(IMS)與工具上計(jì)量系統(tǒng)(OTM)結(jié)合，可實(shí)現(xiàn)基板重迭對(duì)準(zhǔn)和...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型公開(kāi)了一種球形投影成像用外殼裝置，包括透明的上殼體、下殼體和頸部殼體，上殼體在遠(yuǎn)離下殼體的一側(cè)設(shè)置有頸部殼體，頸部殼體與上殼體一體成型設(shè)計(jì)，下殼體的內(nèi)底表面設(shè)置有軸承底座，軸承底座開(kāi)設(shè)有容納槽，容納槽能夠容納滾動(dòng)軸承，軸承底座與滾...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N光刻膠組合物及其用途，其中，光刻膠組合物通過(guò)添加含多羥基苯基化合物的添加劑，一方面提高了非曝光區(qū)的溶解速率，解決了顯影后光刻膠圖形表面有殘留物的問(wèn)題，另一方面由于光刻膠組合物的結(jié)構(gòu)上可交聯(lián)的羥基數(shù)目多，曝光區(qū)交聯(lián)密度大，使曝...
								
            
							
            
							
						
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								      本公開(kāi)涉及用于EUV光刻的保護(hù)膜結(jié)構(gòu)及其制造方法。一種形成保護(hù)膜的方法包括：生長(zhǎng)碳納米管(CNT)，用由不同的材料制成的一個(gè)或多個(gè)納米管包裹所述CNT，以及去除所述CNT。可以在過(guò)濾器之上生長(zhǎng)所述CNT，并且隨后去除所述過(guò)濾器。可以使所述C...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及有機(jī)膜形成材料、圖案形成方法以及化合物。本發(fā)明的目的是提供一種化合物，能形成不僅耐熱性、形成于基板的圖案的填埋、平坦化特性優(yōu)良，且對(duì)于基板的成膜性、密接性良好的有機(jī)下層膜，并提供含有該化合物的有機(jī)膜形成材料。本發(fā)明的解決手段是一種...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供一種T型柵模板及其制備方法和應(yīng)用，屬于半導(dǎo)體器件技術(shù)領(lǐng)域。所述T型柵模板由透明材料制成，包括基板、位于所述基板上的第一凸起結(jié)構(gòu)和位于所述第一凸起結(jié)構(gòu)上的第二凸起結(jié)構(gòu)；所述第一凸起結(jié)構(gòu)的側(cè)面覆蓋有遮光層；所述第二凸起結(jié)構(gòu)的側(cè)面覆蓋有...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及聚合物、化學(xué)增幅負(fù)型抗蝕劑組成物及抗蝕劑圖案形成方法。本發(fā)明的課題是提供：含有具有優(yōu)良的蝕刻耐性、有機(jī)溶劑溶解性、及適當(dāng)?shù)乃釓?qiáng)度，且可產(chǎn)生擴(kuò)散小的酸的聚合物鍵結(jié)型酸產(chǎn)生劑的化學(xué)增幅負(fù)型抗蝕劑組成物，以及使用該化學(xué)增幅抗蝕劑組成物的...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了一種基于分?jǐn)?shù)軌道角動(dòng)量復(fù)用全息的信息存儲(chǔ)裝置和方法，涉及全息技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明將分?jǐn)?shù)軌道角動(dòng)量到整數(shù)軌道角動(dòng)量的任意轉(zhuǎn)換與傳統(tǒng)的整數(shù)軌道角動(dòng)量全息結(jié)合，實(shí)現(xiàn)分?jǐn)?shù)軌道角動(dòng)量復(fù)用全息。本發(fā)明相鄰?fù)ǖ赖耐負(fù)浜蓴?shù)間隔可以小于1，提高了容量...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了一種鏡頭驅(qū)動(dòng)裝置，包括外殼、框架、載體、底座、上簧片和下簧片，框架設(shè)有磁石組，載體設(shè)有第一線圈，底座設(shè)有第二線圈，第一線圈與磁石組配合驅(qū)動(dòng)載體沿光軸方向運(yùn)動(dòng)，第二線圈與磁石組配合驅(qū)動(dòng)框架和載體在垂直于光軸的平面上運(yùn)動(dòng)，以及在框架...
								
            
							
            
							
						
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								      一種光學(xué)成像裝置，包含多個(gè)光學(xué)鏡片。多個(gè)光學(xué)鏡片沿一光軸配置，以朝向一取像方向進(jìn)行取像，并成像于一成像面。多個(gè)光學(xué)鏡片區(qū)分為至少一組固定鏡片組以及至少一組可動(dòng)鏡片組；其中，固定鏡片組為固定設(shè)置，且可動(dòng)鏡片組用以相對(duì)于固定鏡片組位移，以對(duì)光學(xué)...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請(qǐng)公開(kāi)了一種異形密封圈、使用該異形密封圈光學(xué)鏡頭及電子產(chǎn)品。該異形密封圈包括：密封圈本體和與所述密封圈本體連接的密封圈尾部，所述異形密封圈位于鏡筒與所述鏡筒內(nèi)安裝的鏡片之間，其中，所述密封圈本體與所述鏡筒及所述鏡片的外側(cè)邊緣過(guò)盈配合，所...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及感光性樹(shù)脂組合物、使用該組合物制備的感光性樹(shù)脂膜和濾色器，該感光性樹(shù)脂組合物包含(A)著色劑、(B)光可聚合化合物、(C)光聚合引發(fā)劑、(D)粘合劑樹(shù)脂和(E)溶劑，其中：(A)著色劑包括第一綠色染料、第二綠色染料和白色顏料；并且...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型公開(kāi)了一種納米晶塊壓印機(jī)構(gòu)，包括支撐架，所述支撐架的頂部設(shè)有壓印組件，所述支撐架的底部?jī)?nèi)壁固定連接有凸塊，凸塊的頂部轉(zhuǎn)動(dòng)固定連接有轉(zhuǎn)動(dòng)桿，轉(zhuǎn)動(dòng)桿的頂端固定連接有連接板，連接板通過(guò)可拆卸的固定組件與凸塊相固定，所述連接板的兩側(cè)均固定...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N新型不透光二元光掩模制備方法，包括以下步驟：在曝光工藝中，增加曝光劑量以使曝光區(qū)域的光化學(xué)反應(yīng)更充分，從而提高已曝光區(qū)域和未曝光區(qū)域溶解度的差異；在顯影工藝中，對(duì)顯影液采用噴淋方式并調(diào)節(jié)顯影液參數(shù)以確保顯影液均勻覆蓋光掩模表面...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供了一種車輛底盤(pán)控制器及冷備份控制系統(tǒng)和方法，包括主控制系統(tǒng)、備份控制系統(tǒng)以及備份切換電路，主控制系統(tǒng)包括主控制器MCU1和與MCU1連接的主電源芯片SBC，備份控制系統(tǒng)包括備份控制器MCU2和與MCU2連接的備份電源，供電電源Vi...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及曝光機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種曝光機(jī)解析度提升結(jié)構(gòu)，包括燈板，所述燈板的底部固定安裝有散熱器,所述燈板的頂部固定安裝有多組LED燈珠，所述燈板的頂部且位于LED燈珠的外側(cè)固定安裝有燈罩，所述燈罩的內(nèi)側(cè)且位于多組LED燈珠的頂部均...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供一種UV光源的復(fù)合式機(jī)械減振支撐裝置，屬于光刻設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，包括基座、UV光源和減振模塊，減振模塊包括連接件和支撐緩沖件，UV光源通過(guò)連接件連接至支撐緩沖件，支撐緩沖件環(huán)繞UV光源軸線對(duì)稱分布，支撐緩沖件還連接至基座；基座上安裝有...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請(qǐng)涉及半導(dǎo)體集成電路制造技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種OPC建模量測(cè)圖形數(shù)據(jù)選擇方法。方法包括：提供對(duì)應(yīng)半導(dǎo)體器件特定層的掩模版數(shù)據(jù)文件和OPC初始模型；從掩模版數(shù)據(jù)文件中，選取實(shí)際特征尺寸屬于第一特征尺寸范圍的掩模圖形作為測(cè)試圖形，所有測(cè)試圖...
								
            
							
            
							
						
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								      一種被配置為將EUV輻射投影到襯底位置的光刻設(shè)備，該光刻設(shè)備包括：照射系統(tǒng)，該照射系統(tǒng)包括用于沿著束路徑引導(dǎo)EUV輻射的多個(gè)反射表面；以及IR源，該IR源被配置為產(chǎn)生IR輻射；其中所述IR源和照射系統(tǒng)被布置為使得IR輻射沿著束路徑投影。
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型公開(kāi)了一種底面壓印裝置，屬于壓印裝置技術(shù)領(lǐng)域，包括鋼帶、驅(qū)動(dòng)組件、第一連接件、第二連接件和控制組件。鋼帶上印有圖案。鋼帶兩端分別連接第一連接件和第二連接件，驅(qū)動(dòng)組件連接于第一連接件，驅(qū)動(dòng)組件能夠驅(qū)動(dòng)第一連接件轉(zhuǎn)動(dòng)，第一連接件帶動(dòng)鋼...
								
            
							
            
							
						
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