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          攝影電影;光學設備的制造及其處理,應用技術
          • 本實用新型公開了一種球形投影成像用外殼裝置,包括透明的上殼體、下殼體和頸部殼體,上殼體在遠離下殼體的一側設置有頸部殼體,頸部殼體與上殼體一體成型設計,下殼體的內底表面設置有軸承底座,軸承底座開設有容納槽,容納槽能夠容納滾動軸承,軸承底座與滾...
          • 本申請提供了一種光刻膠組合物及其用途,其中,光刻膠組合物通過添加含多羥基苯基化合物的添加劑,一方面提高了非曝光區的溶解速率,解決了顯影后光刻膠圖形表面有殘留物的問題,另一方面由于光刻膠組合物的結構上可交聯的羥基數目多,曝光區交聯密度大,使曝...
          • 本公開涉及用于EUV光刻的保護膜結構及其制造方法。一種形成保護膜的方法包括:生長碳納米管(CNT),用由不同的材料制成的一個或多個納米管包裹所述CNT,以及去除所述CNT。可以在過濾器之上生長所述CNT,并且隨后去除所述過濾器。可以使所述C...
          • 本發明涉及有機膜形成材料、圖案形成方法以及化合物。本發明的目的是提供一種化合物,能形成不僅耐熱性、形成于基板的圖案的填埋、平坦化特性優良,且對于基板的成膜性、密接性良好的有機下層膜,并提供含有該化合物的有機膜形成材料。本發明的解決手段是一種...
          • 本發明提供一種T型柵模板及其制備方法和應用,屬于半導體器件技術領域。所述T型柵模板由透明材料制成,包括基板、位于所述基板上的第一凸起結構和位于所述第一凸起結構上的第二凸起結構;所述第一凸起結構的側面覆蓋有遮光層;所述第二凸起結構的側面覆蓋有...
          • 本發明涉及聚合物、化學增幅負型抗蝕劑組成物及抗蝕劑圖案形成方法。本發明的課題是提供:含有具有優良的蝕刻耐性、有機溶劑溶解性、及適當的酸強度,且可產生擴散小的酸的聚合物鍵結型酸產生劑的化學增幅負型抗蝕劑組成物,以及使用該化學增幅抗蝕劑組成物的...
          • 本發明公開了一種基于分數軌道角動量復用全息的信息存儲裝置和方法,涉及全息技術領域。本發明將分數軌道角動量到整數軌道角動量的任意轉換與傳統的整數軌道角動量全息結合,實現分數軌道角動量復用全息。本發明相鄰通道的拓撲荷數間隔可以小于1,提高了容量...
          • 本發明公開了一種鏡頭驅動裝置,包括外殼、框架、載體、底座、上簧片和下簧片,框架設有磁石組,載體設有第一線圈,底座設有第二線圈,第一線圈與磁石組配合驅動載體沿光軸方向運動,第二線圈與磁石組配合驅動框架和載體在垂直于光軸的平面上運動,以及在框架...
          • 一種光學成像裝置,包含多個光學鏡片。多個光學鏡片沿一光軸配置,以朝向一取像方向進行取像,并成像于一成像面。多個光學鏡片區分為至少一組固定鏡片組以及至少一組可動鏡片組;其中,固定鏡片組為固定設置,且可動鏡片組用以相對于固定鏡片組位移,以對光學...
          • 本申請公開了一種異形密封圈、使用該異形密封圈光學鏡頭及電子產品。該異形密封圈包括:密封圈本體和與所述密封圈本體連接的密封圈尾部,所述異形密封圈位于鏡筒與所述鏡筒內安裝的鏡片之間,其中,所述密封圈本體與所述鏡筒及所述鏡片的外側邊緣過盈配合,所...
          • 本發明涉及感光性樹脂組合物、使用該組合物制備的感光性樹脂膜和濾色器,該感光性樹脂組合物包含(A)著色劑、(B)光可聚合化合物、(C)光聚合引發劑、(D)粘合劑樹脂和(E)溶劑,其中:(A)著色劑包括第一綠色染料、第二綠色染料和白色顏料;并且...
          • 本實用新型公開了一種納米晶塊壓印機構,包括支撐架,所述支撐架的頂部設有壓印組件,所述支撐架的底部內壁固定連接有凸塊,凸塊的頂部轉動固定連接有轉動桿,轉動桿的頂端固定連接有連接板,連接板通過可拆卸的固定組件與凸塊相固定,所述連接板的兩側均固定...
          • 本申請提供一種新型不透光二元光掩模制備方法,包括以下步驟:在曝光工藝中,增加曝光劑量以使曝光區域的光化學反應更充分,從而提高已曝光區域和未曝光區域溶解度的差異;在顯影工藝中,對顯影液采用噴淋方式并調節顯影液參數以確保顯影液均勻覆蓋光掩模表面...
          • 本發明提供了一種車輛底盤控制器及冷備份控制系統和方法,包括主控制系統、備份控制系統以及備份切換電路,主控制系統包括主控制器MCU1和與MCU1連接的主電源芯片SBC,備份控制系統包括備份控制器MCU2和與MCU2連接的備份電源,供電電源Vi...
          • 本實用新型涉及曝光機技術領域,具體涉及一種曝光機解析度提升結構,包括燈板,所述燈板的底部固定安裝有散熱器,所述燈板的頂部固定安裝有多組LED燈珠,所述燈板的頂部且位于LED燈珠的外側固定安裝有燈罩,所述燈罩的內側且位于多組LED燈珠的頂部均...
          • 本發明提供一種UV光源的復合式機械減振支撐裝置,屬于光刻設備技術領域,包括基座、UV光源和減振模塊,減振模塊包括連接件和支撐緩沖件,UV光源通過連接件連接至支撐緩沖件,支撐緩沖件環繞UV光源軸線對稱分布,支撐緩沖件還連接至基座;基座上安裝有...
          • 本申請涉及半導體集成電路制造技術領域,具體涉及一種OPC建模量測圖形數據選擇方法。方法包括:提供對應半導體器件特定層的掩模版數據文件和OPC初始模型;從掩模版數據文件中,選取實際特征尺寸屬于第一特征尺寸范圍的掩模圖形作為測試圖形,所有測試圖...
          • 一種被配置為將EUV輻射投影到襯底位置的光刻設備,該光刻設備包括:照射系統,該照射系統包括用于沿著束路徑引導EUV輻射的多個反射表面;以及IR源,該IR源被配置為產生IR輻射;其中所述IR源和照射系統被布置為使得IR輻射沿著束路徑投影。
          • 本實用新型公開了一種底面壓印裝置,屬于壓印裝置技術領域,包括鋼帶、驅動組件、第一連接件、第二連接件和控制組件。鋼帶上印有圖案。鋼帶兩端分別連接第一連接件和第二連接件,驅動組件連接于第一連接件,驅動組件能夠驅動第一連接件轉動,第一連接件帶動鋼...
          • 本申請涉及半導體制造領域,具體地說,是涉及一種底切結構的形成方法及底切結構,該底切結構的形成方法包括:在晶圓上形成第一正性光刻膠層;對第一正性光刻膠層分別進行兩次曝光,以形成第一底部曝光圖形和第二底部曝光圖形,其中,第一底部曝光圖形和第二底...
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