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                  		五金工具產(chǎn)品及配附件制造技術(shù)
                  	
                  
          
                
          
                
          
                    
            
					
						
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								      本發(fā)明涉及深紫外膜鍍膜的技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種深紫外膜鍍膜設(shè)備及工藝，包括鍍膜機(jī)，鍍膜機(jī)頂端設(shè)置有蒸汽口；還包括移動(dòng)裝置、支撐裝置、清潔裝置、吸氣裝置、輸送帶、第一氣缸、吸盤(pán)、多邊形筒和定位槽，多組吸盤(pán)分別設(shè)置在多組第一氣缸的移動(dòng)端上，多...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供了一種用于小口徑金屬管內(nèi)壁涂層制備的電爆噴涂裝置，涉及電爆噴涂領(lǐng)域，其包括低壓導(dǎo)電管，其連接于電容器的低壓端；金屬管驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，用于驅(qū)動(dòng)金屬管沿低壓導(dǎo)電管內(nèi)部軸向移動(dòng)；金屬管驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)上設(shè)置有低壓電極；高壓導(dǎo)電管，其連接于電容器的高壓...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明提供一種GH4169工件表面復(fù)合功能層及其制備方法。本發(fā)明的GH4169工件表面復(fù)合功能層的制備方法，包括：采用MEVVA離子源對(duì)GH4169工件表面進(jìn)行金屬鉻離子或金屬鎳離子注入，形成過(guò)渡金屬層；通過(guò)磁控濺射法在過(guò)渡金屬層上依次循環(huán)...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明的課題是提供一種能夠適用于半導(dǎo)體制造裝置的構(gòu)成部件且耐腐蝕性優(yōu)異的金屬材料。本發(fā)明涉及的層疊體具有金屬基材、在所述金屬基材上形成的含鎳鍍敷被膜層、以及在所述含鎳鍍敷被膜層上形成的鍍金被膜層，并且，所述鍍金被膜層的針孔被厚度為8nm以上...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了一種連續(xù)鍍鋅帶鋼用輥式表面鈍化處理裝置，包括工作臺(tái)、位于工作臺(tái)頂部左側(cè)的第一導(dǎo)輥架和位于工作臺(tái)頂部右側(cè)的第二導(dǎo)輥架，所述工作臺(tái)的底部設(shè)置有調(diào)整單元帶動(dòng)第一導(dǎo)輥架和第二導(dǎo)輥架相對(duì)或者相離運(yùn)動(dòng)，所述工作臺(tái)的頂部中間固定有鈍化液箱，本...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了一種銅摻雜高熵合金氮化物復(fù)合涂層及其制備方法，本發(fā)明涂層包括設(shè)置在基體上的中間過(guò)渡層和表面工作層，所述過(guò)渡層自內(nèi)而外依次為打底層TiAlCrV合金層和中間層TiAlCrVN氮化物層，表面的(TiAlCrV)?Cu?N高熵合金氮化...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明屬于光學(xué)薄膜技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種紫外寬波段低反射薄膜及其制備方法。本發(fā)明提供的紫外寬波段低反射薄膜包括交替層疊設(shè)置的低折射率材料和高折射率材料，低折射率材料包括SiO2、Al2O...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明屬于營(yíng)養(yǎng)組合物技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種促進(jìn)生長(zhǎng)發(fā)育和改善感冒癥狀的組合物及其制備方法和應(yīng)用。所述組合物包括：脫脂乳粉、全脂乳粉、脫鹽乳清粉、乳糖、低聚異麥芽糖、結(jié)晶果糖、牛初乳粉、乳礦物鹽、低聚半乳糖、低聚果糖、初乳堿性蛋白、水解蛋黃粉...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型公開(kāi)了一種玻璃基板蒸鍍裝置，包括基座、掩膜版和吸附組件，基座內(nèi)設(shè)有蒸鍍腔，基座上設(shè)有用于封閉蒸鍍腔的蓋板，待蒸鍍的玻璃基板固定在蓋板朝向蒸鍍腔的一側(cè)面上，蒸鍍腔內(nèi)設(shè)有多個(gè)朝向玻璃基板的蒸鍍噴頭；掩膜版設(shè)置玻璃基板與蒸鍍噴頭之間，且...
								
            
							
            
							
						
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								      一種復(fù)合掩膜版的制備方法，包括如下步驟：S1：在掩膜版上設(shè)置有光刻圖；S2：通過(guò)光刻圖去除部分光阻；S3：電鑄掩膜版，在掩膜版上均勻涂布高分子膜層；S4：將高分子膜層固化成型；S5：對(duì)固化后的高分子膜層進(jìn)行脈沖鉆孔，開(kāi)出帶錐角的類圓錐臺(tái)孔洞...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型公開(kāi)了一種用于不耐高溫基材在真空室鍍膜中的溫控系統(tǒng)，包括設(shè)置于真空室內(nèi)且與基材相貼合進(jìn)行換熱的熱交換組件，所述熱交換組件與設(shè)置于真空室外且并行設(shè)置的冷卻模塊以及升溫模塊相連通；設(shè)置冷卻模塊，對(duì)鍍膜過(guò)程中的基材進(jìn)行冷卻，從而帶走基材...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種氧化硅表面生長(zhǎng)石墨烯薄膜的方法，其包括如下步驟：S1，提供氧化硅片襯底，其中，該氧化硅片襯底包括硅片和位于硅片表面的氧化硅薄膜，該氧化硅薄膜的厚度為90nm?300nm；S2，在功率為20瓦?50瓦的等離子輔助和380℃?60...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型提供了一種便于換粉的送粉裝置及設(shè)備，包括：快拆粉筒組件；出粉組件，所述出粉組件包括殼體和轉(zhuǎn)盤(pán)，所述快拆粉筒組件的出口與所述殼體可拆卸連接，所述轉(zhuǎn)盤(pán)設(shè)置在殼體內(nèi)，所述轉(zhuǎn)盤(pán)上設(shè)有用于容納從所述快拆粉筒組件流下的粉末的環(huán)形容納槽；驅(qū)動(dòng)電...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了一種微通道式Mist?CVD薄膜外延系統(tǒng)，包括供氣模塊，供氣模塊連通有霧化模塊和反應(yīng)模塊，霧化模塊連通反應(yīng)模塊，反應(yīng)模塊連通有尾氣處理模塊；反應(yīng)模塊與霧化模塊之間連通有積液回流裝置；反應(yīng)模塊中設(shè)置有水平的微通道，用于提供沉積反應(yīng)...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及化學(xué)氣相沉積爐及化學(xué)氣相沉積裝置，屬于化學(xué)氣相沉積設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域；所述化學(xué)氣相沉積爐包括：沉積爐本體，在沉積爐本體內(nèi)部形成沉積室，沉積室內(nèi)部安裝有攪拌機(jī)構(gòu)；整個(gè)化學(xué)氣相沉積裝置采用熱風(fēng)作為動(dòng)力源，既可以推動(dòng)沉積室內(nèi)部設(shè)置的攪拌機(jī)構(gòu)運(yùn)...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請(qǐng)涉及合金表面處理技術(shù)領(lǐng)域，具體公開(kāi)了一種鎂合金表面處理劑及其制備方法。一種鎂合金表面處理劑，包含以下重量份的組分：鉬鹽20?30份、釩鹽8?12份、無(wú)機(jī)酸0.4?2份、絡(luò)合劑4.5?6份、氧化硅3?5份、十二烷基硫酸鈉0.3?0.5份...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N輔助手動(dòng)上下片治具，屬于半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，包括：第一治具部分，所述第一治具部分包括握持部、第一定位部和夾持部；第二治具部分，所述第二治具部分設(shè)置于磁控濺射設(shè)備的進(jìn)出片腔體，所述第二治具部分包括支撐部和第二定位部；在所述...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型公開(kāi)了一種真空鍍膜機(jī)的送板裝置，包括：安裝架，設(shè)置于所述過(guò)渡艙內(nèi)；一對(duì)上固定槽板和一對(duì)下固定槽板，固定設(shè)置在所述安裝架上；一對(duì)上動(dòng)槽板，通過(guò)上主動(dòng)曲柄連桿和上從動(dòng)曲柄連桿活動(dòng)安裝在所述安裝架上，所述上主動(dòng)曲柄連桿連接有上動(dòng)力源；一...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型公開(kāi)了一種帶有快換式升降錫爐裝置的涂錫機(jī)，涉及涂錫機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，解決了錫爐內(nèi)的錫液更換不便，容易存在殘留的問(wèn)題，其包括涂錫機(jī)本體和錫爐，還包括：用于放置錫爐的車架，所述車架的底部安裝有滾輪以便錫爐移動(dòng)；抬升組件，所述抬升組件包括安裝...
								
            
							
            
							
						
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								      本實(shí)用新型屬于顯示裝置制造技術(shù)領(lǐng)域，公開(kāi)了一種化學(xué)氣相沉積裝置，包括腔體、安裝架、上電極、下電極和絕緣墊，腔體通過(guò)安裝架設(shè)置于地面上，腔體內(nèi)設(shè)置有沉積腔，上電極和下電極沿豎直方向間隔設(shè)置于沉積腔，上電極連接射頻電源，下電極接地并用于承托待鍍...
								
            
							
            
							
						
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