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          五金工具產(chǎn)品及配附件制造技術(shù)
          • 本發(fā)明提供一種能夠在維持傳送載具的旋轉(zhuǎn)部件的位置精度的同時(shí),抑制基板的損傷或掉落的成膜裝置。在本發(fā)明的一個(gè)方面的成膜裝置中,傳送載具的傳送機(jī)構(gòu)具有設(shè)置在腔室內(nèi)對(duì)所述載具進(jìn)行支承的支承單元,所述支承單元具有用于支承所述載具的多個(gè)旋轉(zhuǎn)部件,且從...
          • 本發(fā)明公開(kāi)了一種基于磁控濺射的鈦鋁氧化物薄膜的制備方法,包括:將基板依次用酒精、丙酮和去離子水超聲清洗并干燥,將干燥后的基板裝入磁控濺射腔室;在磁控濺射腔室中,將鈦鋁靶材固定安裝在距離基板8cm的位置,并在氬氣氛圍中進(jìn)行預(yù)濺射;向磁控濺射室...
          • 本發(fā)明屬于半導(dǎo)體存儲(chǔ)器件技術(shù)領(lǐng)域,具體公開(kāi)了一種具有突觸特性的摻雜型鐵酸鉍憶阻器及其制備方法,該憶阻器依次包括襯底、底電極、功能層和頂電極;所述功能層為摻雜鐵酸鉍薄膜,所述摻雜鐵酸鉍薄膜的材料為A位單摻雜、B位單摻雜或A位與B位共摻雜的鐵酸...
          • 本文提供了在物理氣相沉積(PVD)工藝中用于高深寬比特征的多陰極阻障層種晶沉積的設(shè)備和方法。在些具體實(shí)施例中,PVD腔室包括設(shè)置在PVD腔室處理區(qū)域內(nèi)的底座。底座可隨其上的工件旋轉(zhuǎn)。PVD腔室包括腔室蓋組件,組件包括具有相同靶材材料的第一靶...
          • 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種可調(diào)節(jié)式半自動(dòng)加錫機(jī),涉及自動(dòng)加錫技術(shù)領(lǐng)域;而本實(shí)用新型包括底盤(pán),所述底盤(pán)外圈固定連接有支架,所述支架頂端固定連接有頂盤(pán),所述頂盤(pán)底端中心處固定連接有供料桶,所述底盤(pán)頂端中心處固定連接有錫液筒本體,所述錫液筒本體內(nèi)腔滑動(dòng)...
          • 本發(fā)明屬于玻璃磁控濺射鍍膜技術(shù)領(lǐng)域,尤其為一種多功能鏡面玻璃及制備方法,包括玻璃基片以及鍍膜層,鍍膜層自玻璃基片向外一側(cè)復(fù)合設(shè)置有五組膜層,其中第一層為SiNx、SiAlNx、SiZrNx中的一種及多種組合;第二層為NiCr、Cr及其氧化物...
          • 本發(fā)明涉及硬質(zhì)合金材料領(lǐng)域,具體為一種耐磨硬質(zhì)合金及其制備方法,由硬質(zhì)合金基體、過(guò)渡層和耐磨涂層組成,所述過(guò)渡層由稀土?鐵二元合金和LaMO3制成,M為過(guò)渡金屬元素,本發(fā)明通過(guò)添加過(guò)渡層可以形成熱膨脹系數(shù)的梯度結(jié)構(gòu),使...
          • 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種鍍鋅管用熱鍍鋅冷卻水槽水蒸氣回收裝置,包括設(shè)置在冷卻池口外兩側(cè)的立板,立板的頂部連接有橫板,橫板遠(yuǎn)離立板的一端鉸接有遮擋板,橫板上安裝有控制遮擋板角度的調(diào)整組件;立板上開(kāi)設(shè)有若干個(gè)安裝孔,安裝孔內(nèi)插入有L形的吸氣管,吸氣...
          • 本實(shí)用新型涉及一種型鋼熱鍍鋅設(shè)備,屬于熱鍍鋅技術(shù)領(lǐng)域。技術(shù)方案是:磁力輥架的前端低點(diǎn)位于鋅鍋出料側(cè),磁力輥架的后端高點(diǎn)與斜輥道相匹配,斜輥道向上傾斜,與一排磁力輥傾斜的角度相匹配;所述磁力輥架的前端低點(diǎn)設(shè)置風(fēng)刀,風(fēng)刀噴吹的風(fēng)向朝向鋅鍋;提料...
          • 本發(fā)明涉及鋁合金鑄造技術(shù)領(lǐng)域,公開(kāi)一種減少鋁合金鑄棒中心偏析的鑄棒設(shè)備及方法,利用與鋁合金鑄棒同樣合金成分的鋁線(xiàn)或鋁板將超聲波傳到到待結(jié)晶的鋁液內(nèi),根據(jù)具體合金成分、鑄棒尺寸控制調(diào)節(jié)超聲波發(fā)生器的工作頻率及鋁線(xiàn)或鋁板在鋁液內(nèi)的浸沒(méi)深度,根據(jù)...
          • 本實(shí)用新型提供了一種熱鍍鋅鋁鎂帶鋼冷卻裝置,包括底座、冷卻箱、放料輥、收卷輥、進(jìn)料輥、冷卻組件、支撐框和散熱組件;冷卻箱,冷卻箱安裝于底座的頂端;放料輥,放料輥安裝于底座的頂端一側(cè),放料輥位于冷卻箱的左端;收卷輥,收卷輥安裝于底座的頂端另一...
          • 本發(fā)明公開(kāi)了一種感應(yīng)加熱與電子束蒸發(fā)的薄膜制備裝置,其包括主殼體、抽真空泵體、感應(yīng)加熱器、電子束發(fā)生源、樣品支架和輻射屏蔽結(jié)構(gòu),抽真空泵體與主殼體的真空腔連接;感應(yīng)加熱器、電子束發(fā)生源均設(shè)于真空腔的下部;樣品支架安裝于真空腔的上部,輻射屏蔽...
          • 本發(fā)明涉及一種高熱擴(kuò)散系數(shù)導(dǎo)熱涂層及其制備方法,屬于表面工程技術(shù)領(lǐng)域,解決現(xiàn)有解決飛行器結(jié)構(gòu)熱應(yīng)力分布不均勻的方法成本高導(dǎo)熱率低的問(wèn)題。包括按照質(zhì)量配比稱(chēng)取Cu粉、Ag粉和NiCoCrAlY粉,得到第一原料粉;稱(chēng)取NiCoCrAlY粉為第二...
          • 本發(fā)明公開(kāi)了一種刀具涂層的熱處理輸送加工裝置,屬于刀具加工技術(shù)領(lǐng)域,包括:熱處理加工機(jī)構(gòu),所述熱處理加工機(jī)構(gòu)包括安裝有第一電機(jī)的箱體,所述第一電機(jī)的輸出軸貫穿箱體并延伸至護(hù)罩內(nèi)部的第一錐形齒輪上,所述第一錐形齒輪外壁嚙合傳動(dòng)有第二錐形齒輪,...
          • 本發(fā)明涉及一種高結(jié)合強(qiáng)度耐磨涂層及其制備方法,包括以下步驟:對(duì)基材表面進(jìn)行拋光處理,再進(jìn)行超聲清洗和干燥,得到預(yù)處理基材;利用高功率脈沖磁控濺射技術(shù)在預(yù)處理基材表面沉積TiAlSiN過(guò)渡層;利用高功率脈沖磁控濺射技術(shù)在TiAlSiN過(guò)渡層上...
          • 本發(fā)明涉及鍍膜機(jī)技術(shù)領(lǐng)域,公開(kāi)了一種電容薄膜鍍膜機(jī),包括鍍膜箱,還包括:靶材,靶材安裝于鍍膜箱內(nèi)部,靶材上方設(shè)置有安裝于鍍膜箱內(nèi)壁的離子源;卷繞組件,卷繞組件設(shè)置于鍍膜箱內(nèi)部,且卷繞組件用于對(duì)電容薄膜進(jìn)行卷繞;變速組件,變速組件設(shè)置于鍍膜箱...
          • 本發(fā)明公開(kāi)了一種抗CMAS腐蝕的熱障涂層及其制備方法,屬于熱障涂層技術(shù)領(lǐng)域,制備方法包括:制備粘結(jié)層;在粘結(jié)層上制備YSZ涂層;在YSZ涂層上采用Gd2O3陶瓷漿料微流擠出成型制備Gd2...
          • 本發(fā)明公開(kāi)了一種多腔體氧化鎵外延薄膜生長(zhǎng)自動(dòng)化量產(chǎn)裝置及其使用方法,生長(zhǎng)裝置包括滑軌、襯底安裝結(jié)構(gòu)、待沉積襯底、若干個(gè)HVPE半導(dǎo)體外延生長(zhǎng)裝置、轉(zhuǎn)運(yùn)結(jié)構(gòu)和MOCVD外延生長(zhǎng)裝置,襯底安裝結(jié)構(gòu)滑動(dòng)安裝在滑軌上,襯底安裝結(jié)構(gòu)上設(shè)置有若干個(gè)陶瓷...
          • 本發(fā)明涉及鋼管鈍化處理技術(shù)領(lǐng)域,公開(kāi)了一種無(wú)縫鋼管表面處理用鈍化裝置,包括鈍化槽、設(shè)于鈍化槽上方的承載組件以及提升組件,承載組件包括呈上下設(shè)置的第一框架和第二框架,提升組件包括支架、液壓桿、銜接架、支撐架以及承載板,承載板上設(shè)有用于對(duì)第一框...
          • 本發(fā)明提供了一種薄膜沉積設(shè)備、一種薄膜沉積方法及一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)。所述薄膜沉積設(shè)備包括工藝腔室、真空泵、反應(yīng)氣源、吹掃氣源及控制器。所述工藝腔室中包括晶圓托盤(pán)。所述真空泵經(jīng)由第一閥門(mén)及晶圓吸附管路連接所述晶圓托盤(pán)。所述反應(yīng)氣源經(jīng)由第二...
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