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          五金工具產(chǎn)品及配附件制造技術
          • 本發(fā)明公開了一種基于磁控濺射的鈦鋁氧化物薄膜的制備方法,包括:將基板依次用酒精、丙酮和去離子水超聲清洗并干燥,將干燥后的基板裝入磁控濺射腔室;在磁控濺射腔室中,將鈦鋁靶材固定安裝在距離基板8cm的位置,并在氬氣氛圍中進行預濺射;向磁控濺射室...
          • 本發(fā)明屬于半導體存儲器件技術領域,具體公開了一種具有突觸特性的摻雜型鐵酸鉍憶阻器及其制備方法,該憶阻器依次包括襯底、底電極、功能層和頂電極;所述功能層為摻雜鐵酸鉍薄膜,所述摻雜鐵酸鉍薄膜的材料為A位單摻雜、B位單摻雜或A位與B位共摻雜的鐵酸...
          • 本文提供了在物理氣相沉積(PVD)工藝中用于高深寬比特征的多陰極阻障層種晶沉積的設備和方法。在些具體實施例中,PVD腔室包括設置在PVD腔室處理區(qū)域內(nèi)的底座。底座可隨其上的工件旋轉。PVD腔室包括腔室蓋組件,組件包括具有相同靶材材料的第一靶...
          • 本實用新型公開了一種可調節(jié)式半自動加錫機,涉及自動加錫技術領域;而本實用新型包括底盤,所述底盤外圈固定連接有支架,所述支架頂端固定連接有頂盤,所述頂盤底端中心處固定連接有供料桶,所述底盤頂端中心處固定連接有錫液筒本體,所述錫液筒本體內(nèi)腔滑動...
          • 本發(fā)明屬于玻璃磁控濺射鍍膜技術領域,尤其為一種多功能鏡面玻璃及制備方法,包括玻璃基片以及鍍膜層,鍍膜層自玻璃基片向外一側復合設置有五組膜層,其中第一層為SiNx、SiAlNx、SiZrNx中的一種及多種組合;第二層為NiCr、Cr及其氧化物...
          • 本發(fā)明涉及硬質合金材料領域,具體為一種耐磨硬質合金及其制備方法,由硬質合金基體、過渡層和耐磨涂層組成,所述過渡層由稀土?鐵二元合金和LaMO3制成,M為過渡金屬元素,本發(fā)明通過添加過渡層可以形成熱膨脹系數(shù)的梯度結構,使...
          • 本實用新型公開了一種鍍鋅管用熱鍍鋅冷卻水槽水蒸氣回收裝置,包括設置在冷卻池口外兩側的立板,立板的頂部連接有橫板,橫板遠離立板的一端鉸接有遮擋板,橫板上安裝有控制遮擋板角度的調整組件;立板上開設有若干個安裝孔,安裝孔內(nèi)插入有L形的吸氣管,吸氣...
          • 本實用新型涉及一種型鋼熱鍍鋅設備,屬于熱鍍鋅技術領域。技術方案是:磁力輥架的前端低點位于鋅鍋出料側,磁力輥架的后端高點與斜輥道相匹配,斜輥道向上傾斜,與一排磁力輥傾斜的角度相匹配;所述磁力輥架的前端低點設置風刀,風刀噴吹的風向朝向鋅鍋;提料...
          • 本發(fā)明涉及鋁合金鑄造技術領域,公開一種減少鋁合金鑄棒中心偏析的鑄棒設備及方法,利用與鋁合金鑄棒同樣合金成分的鋁線或鋁板將超聲波傳到到待結晶的鋁液內(nèi),根據(jù)具體合金成分、鑄棒尺寸控制調節(jié)超聲波發(fā)生器的工作頻率及鋁線或鋁板在鋁液內(nèi)的浸沒深度,根據(jù)...
          • 本實用新型提供了一種熱鍍鋅鋁鎂帶鋼冷卻裝置,包括底座、冷卻箱、放料輥、收卷輥、進料輥、冷卻組件、支撐框和散熱組件;冷卻箱,冷卻箱安裝于底座的頂端;放料輥,放料輥安裝于底座的頂端一側,放料輥位于冷卻箱的左端;收卷輥,收卷輥安裝于底座的頂端另一...
          • 本發(fā)明公開了一種感應加熱與電子束蒸發(fā)的薄膜制備裝置,其包括主殼體、抽真空泵體、感應加熱器、電子束發(fā)生源、樣品支架和輻射屏蔽結構,抽真空泵體與主殼體的真空腔連接;感應加熱器、電子束發(fā)生源均設于真空腔的下部;樣品支架安裝于真空腔的上部,輻射屏蔽...
          • 本發(fā)明涉及一種高熱擴散系數(shù)導熱涂層及其制備方法,屬于表面工程技術領域,解決現(xiàn)有解決飛行器結構熱應力分布不均勻的方法成本高導熱率低的問題。包括按照質量配比稱取Cu粉、Ag粉和NiCoCrAlY粉,得到第一原料粉;稱取NiCoCrAlY粉為第二...
          • 本發(fā)明公開了一種刀具涂層的熱處理輸送加工裝置,屬于刀具加工技術領域,包括:熱處理加工機構,所述熱處理加工機構包括安裝有第一電機的箱體,所述第一電機的輸出軸貫穿箱體并延伸至護罩內(nèi)部的第一錐形齒輪上,所述第一錐形齒輪外壁嚙合傳動有第二錐形齒輪,...
          • 本發(fā)明涉及一種高結合強度耐磨涂層及其制備方法,包括以下步驟:對基材表面進行拋光處理,再進行超聲清洗和干燥,得到預處理基材;利用高功率脈沖磁控濺射技術在預處理基材表面沉積TiAlSiN過渡層;利用高功率脈沖磁控濺射技術在TiAlSiN過渡層上...
          • 本發(fā)明涉及鍍膜機技術領域,公開了一種電容薄膜鍍膜機,包括鍍膜箱,還包括:靶材,靶材安裝于鍍膜箱內(nèi)部,靶材上方設置有安裝于鍍膜箱內(nèi)壁的離子源;卷繞組件,卷繞組件設置于鍍膜箱內(nèi)部,且卷繞組件用于對電容薄膜進行卷繞;變速組件,變速組件設置于鍍膜箱...
          • 本發(fā)明公開了一種抗CMAS腐蝕的熱障涂層及其制備方法,屬于熱障涂層技術領域,制備方法包括:制備粘結層;在粘結層上制備YSZ涂層;在YSZ涂層上采用Gd2O3陶瓷漿料微流擠出成型制備Gd2...
          • 本發(fā)明公開了一種多腔體氧化鎵外延薄膜生長自動化量產(chǎn)裝置及其使用方法,生長裝置包括滑軌、襯底安裝結構、待沉積襯底、若干個HVPE半導體外延生長裝置、轉運結構和MOCVD外延生長裝置,襯底安裝結構滑動安裝在滑軌上,襯底安裝結構上設置有若干個陶瓷...
          • 本發(fā)明涉及鋼管鈍化處理技術領域,公開了一種無縫鋼管表面處理用鈍化裝置,包括鈍化槽、設于鈍化槽上方的承載組件以及提升組件,承載組件包括呈上下設置的第一框架和第二框架,提升組件包括支架、液壓桿、銜接架、支撐架以及承載板,承載板上設有用于對第一框...
          • 本發(fā)明提供了一種薄膜沉積設備、一種薄膜沉積方法及一種計算機可讀存儲介質。所述薄膜沉積設備包括工藝腔室、真空泵、反應氣源、吹掃氣源及控制器。所述工藝腔室中包括晶圓托盤。所述真空泵經(jīng)由第一閥門及晶圓吸附管路連接所述晶圓托盤。所述反應氣源經(jīng)由第二...
          • 本發(fā)明公開了一種傳感器芯片金屬電極熱防護結構及其制備方法,屬于金屬電極熱防護結構技術領域。本發(fā)明的熱防護結構包括:傳感器基底,其上依次設置有電極緩沖層和連續(xù)多層Pt?W電極。在這種結構中,Pt電極是在W電極上沉積的,這種沉積方式使得Pt晶體...
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