廣州方邦電子股份有限公司蘇陟獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉廣州方邦電子股份有限公司申請的專利電磁散射膜獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN112886264B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-26發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:201911199858.4,技術領域涉及:H01Q15/02;該發明授權電磁散射膜是由蘇陟;高強設計研發完成,并于2019-11-29向國家知識產權局提交的專利申請。
本電磁散射膜在說明書摘要公布了:本發明涉及一種電磁散射膜,包括導電層,導電層的第一表面間隔設置有多個凹槽,凹槽的內壁呈球面狀,每個凹槽的內壁上開設有至少一個第一通孔,第一通孔的另一端貫穿于與第一表面相對的第二表面,第一通孔的截面的輪廓上任意兩點距離S中的最大值小于入射至第一通孔的電磁波的波長λ。該電磁散射膜通過在第一表面設置球面狀凹槽,并在第二表面設置與凹槽連通的第一通孔,使電磁波在穿過電磁散射膜時發生衍射和反射,進而使電磁波的傳播方向發散,擴大傳播范圍。
本發明授權電磁散射膜在權利要求書中公布了:1.一種電磁散射膜,其特征在于,包括導電層1,所述導電層1的第一表面間隔設置有多個凹槽10,所述凹槽10的內壁呈球面狀,每個所述凹槽10的內壁上開設有至少一個第一通孔11,所述第一通孔11的另一端貫穿于與所述第一表面相對的第二表面,所述第一通孔11的截面的輪廓上任意兩點距離S中的最大值小于入射至所述第一通孔11的電磁波的波長λ; 沿所述第一表面的至少一個方向,相鄰兩個所述凹槽10之間的間距呈中部大兩側小的趨勢設置,相鄰兩個所述凹槽10之間的間距為所述第一表面上相鄰兩個所述凹槽10的輪廓線上最近兩點之間的直線距離; 每個凹槽10的內壁上開設有多個第一通孔11,每個凹槽10中,多個所述第一通孔11的軸線與所述凹槽10的內壁的交點到第一表面的距離h大于所述凹槽10的深度H的最大值的二分之一。
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