哈爾濱工業大學王浪平獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉哈爾濱工業大學申請的專利一種超高溫液態靶材高功率脈沖磁控濺射技術高速沉積氧化鋁涂層的方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119465054B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-26發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202411672305.7，技術領域涉及：C23C14/35；該發明授權一種超高溫液態靶材高功率脈沖磁控濺射技術高速沉積氧化鋁涂層的方法是由王浪平;孫田瑋;顏雨晨;王小峰設計研發完成，并于2024-11-21向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種超高溫液態靶材高功率脈沖磁控濺射技術高速沉積氧化鋁涂層的方法在說明書摘要公布了：一種超高溫液態靶材高功率脈沖磁控濺射技術高速沉積氧化鋁涂層的方法，它涉及一種高速沉積氧化鋁涂層的方法。本發明要解決現有氧化鋁涂層濺射沉積過程中，存在靶中毒現象，導致靶材的濺射速率很低的問題。方法：一、將濺射靶材放入靶座中，調整靶座與磁控靶冷卻底座之間存在間隙；二、通過高功率脈沖磁控電源形成高功率脈沖磁控濺射放電，直至靶材表面熔化；三、通入O2氣，在高功率及超高溫下進行濺射。本發明用于超高溫液態靶材高功率脈沖磁控濺射技術高速沉積氧化鋁涂層。
本發明授權一種超高溫液態靶材高功率脈沖磁控濺射技術高速沉積氧化鋁涂層的方法在權利要求書中公布了：1.一種超高溫液態靶材高功率脈沖磁控濺射技術高速沉積氧化鋁涂層的方法，其特征在于它是按以下步驟進行的： 一、將濺射靶材放入靶座中，調整靶座與磁控靶冷卻底座之間存在間隙，將基體放置于樣品臺上并懸掛在濺射靶材正上方50mm～300mm處； 所述的間隙寬度為1mm～20mm； 二、將真空室抽真空，然后通入Ar氣，在放電電壓幅值為0.1kV～2.0kV、放電功率為0.6kW～5kW、頻率為1kHz～10kHz及脈沖寬度為10μs～500μs的條件下，通過高功率脈沖磁控電源形成高功率脈沖磁控濺射放電，使靶材表面發生熔化，調節放電電壓幅值以維持放電功率為0.6kW～5kW，直至靶材熔化，得到液態靶材； 三、保持Ar氣通入，同時通入50sccm的O2氣，在功率密度為5Wcm2、頻率為1kHz～10kHz、脈沖寬度為10μs～500μs及液態靶材溫度為1500K～3500K的條件下進行濺射，即完成超高溫液態靶材高功率脈沖磁控濺射技術高速沉積氧化鋁涂層的方法。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人哈爾濱工業大學，其通訊地址為：150001 黑龍江省哈爾濱市南崗區西大直街92號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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