同濟大學張弛獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉同濟大學申請的專利一種甲基磺酸三甲胺二階非線性光學晶體材料及其制備和應用獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119753849B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-26發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202411989322.3，技術領域涉及：C30B29/54；該發明授權一種甲基磺酸三甲胺二階非線性光學晶體材料及其制備和應用是由張弛;吳超;龔榧元設計研發完成，并于2024-12-31向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種甲基磺酸三甲胺二階非線性光學晶體材料及其制備和應用在說明書摘要公布了：本發明涉及一種甲基磺酸三甲胺二階非線性光學晶體材料及其制備和應用，該晶體材料的化學式為[CH33NH]+[SO3CH3]?，分子量分別為154.21，屬于正交晶系，空間群為Pca21No.29。晶胞參數為 α＝γ＝β＝90°，Z＝4，晶胞體積為本發明所述的非線性光學晶體[CH33NH]+[SO3CH3]?在1064nm激光照射下的粉末倍頻效應約為磷酸二氫鉀晶體的0.5倍，且能實現相位匹配，其紫外吸收截止邊小于200nm。該晶體材料易于生長，在電光調制、全息存儲元件、以及倍頻器件等方面展現出重要的應用價值。
本發明授權一種甲基磺酸三甲胺二階非線性光學晶體材料及其制備和應用在權利要求書中公布了：1.一種甲基磺酸三甲胺二階非線性光學晶體材料，其特征在于，其化學式為[CH33NH]+[SO3CH3]-，分子量分別為154.21，屬于正交晶系，空間群為Pca21No.29，晶胞參數為α＝γ＝β＝90°，Z＝4，晶胞體積為
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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