浙江大學楊化超獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉浙江大學申請的專利一種無膜的非對稱法拉第電容去離子裝置及應用獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119833318B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-26發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510035482.2，技術領域涉及：H01G11/30；該發明授權一種無膜的非對稱法拉第電容去離子裝置及應用是由楊化超;馮豪;薄拯設計研發完成，并于2025-01-09向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種無膜的非對稱法拉第電容去離子裝置及應用在說明書摘要公布了：本發明公開了一種無膜的非對稱法拉第電容去離子裝置，所述裝置包括法拉第正極和法拉第負極，所述法拉第正極包括氮摻雜多孔碳包覆的納米鉍材料Bi@NCNF，所述法拉第負極包括富含氧官能團的過渡金屬碳化物材料MX?O，所述裝置不包括離子交換膜。本發明提供的非對稱法拉第電容去離子裝置，由上述正極、負極直接組裝而成，兼具高吸附容量與長循環性能，有效解決了傳統電容去離子裝置存在的低容量和低循環次數的問題，并拓展了脫鹽應用的濃度范圍。
本發明授權一種無膜的非對稱法拉第電容去離子裝置及應用在權利要求書中公布了：1.一種無膜的非對稱法拉第電容去離子裝置在脫鹽上的應用，其特征在于，所述裝置在濃度2000-35000mgL的氯化鈉溶液中進行脫鹽； 所述裝置包括法拉第正極和法拉第負極，所述法拉第正極包括氮摻雜多孔碳包覆的納米鉍材料Bi@NCNF，所述法拉第負極包括富含氧官能團的過渡金屬碳化物材料MX-O，所述裝置不包括離子交換膜； 所述氮摻雜多孔碳包覆的納米鉍材料Bi@NCNF的制備方法包括：以五水硝酸鉍、吡唑-3,5-二羧酸和樟腦酸為原料，水熱反應得到前驅體；前驅體經煅燒得到Bi@NCNF；所述煅燒的溫度為600-800℃。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人浙江大學，其通訊地址為：310058 浙江省杭州市西湖區余杭塘路866號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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