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龍圖騰網獲悉上海芯東來半導體科技有限公司申請的專利用于光學系統焦面檢測的測試模版、檢測方法及光刻機獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120370638B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-26發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510838981.5，技術領域涉及：G03F7/20；該發明授權用于光學系統焦面檢測的測試模版、檢測方法及光刻機是由請求不公布姓名設計研發完成，并于2025-06-23向國家知識產權局提交的專利申請。

本用于光學系統焦面檢測的測試模版、檢測方法及光刻機在說明書摘要公布了：本申請提供了用于光學系統焦面檢測的測試模版、檢測方法及光刻機，屬于光刻機技術領域，其中的測試模版由于包括了至少一個菱形測試圖案，這種設計使得光學系統焦面位置的檢測更為精確。菱形圖案的尖端對于離焦量的變化非常敏感，這有助于識別焦面位置的微小偏差。通過使用這種測試模板，可以快速檢測和調整焦面位置，從而減少生產過程中的調試時間，提高生產效率。需要說明的是，該測試模板的設計不依賴于特定的光學系統配置，因此可以廣泛應用于不同的光學系統中，如光刻機、顯微鏡等，用于焦面位置的檢測和校準。

本發明授權用于光學系統焦面檢測的測試模版、檢測方法及光刻機在權利要求書中公布了：1.用于光學系統焦面檢測的測試模版，其特征在于，所述測試模版包括： 載體（10）； 測試模塊（200），所述測試模塊（200）設置在所述載體（10）上，且所述測試模塊（200）包括有至少一個菱形測試圖案（20001）； 所述測試模塊（200）包括有至少一個測試模組（2000），所述測試模組（2000）包括有m組測試單元（20000），且每一組測試單元（20000）中均包括有n個所述菱形測試圖案（20001），m≥5，n≥4； m組測試單元（20000）之間按照間隔x1以第一分布規律進行平行的分布； n個所述菱形測試圖案（20001）之間按照間隔x2以第二分布規律進行平行的分布； 其中x1＞x2； m組測試單元（20000）在第一分布規律下滿足：相鄰兩組所述測試單元（20000）中的一組測試單元（20000）能夠沿著水平方向或豎直方向平移x1距離后和另外一組測試單元（20000）重合在一起； n個所述菱形測試圖案（20001）在第二分布規律下滿足：相鄰兩個所述菱形測試圖案（20001）中的一個所述菱形測試圖案（20001）能夠沿著水平方向或豎直方向平移x2距離后和另外一個菱形測試圖案（20001）重合在一起。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人上海芯東來半導體科技有限公司，其通訊地址為：201200 上海市浦東新區川沙新鎮川宏路300號東3幢；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。