皇家飛利浦有限公司B·R·戴維獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉皇家飛利浦有限公司申請的專利用于干涉式X射線成像的光柵的模塊化制造技術獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114730644B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-23發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080080797.4，技術領域涉及：G21K1/02；該發明授權用于干涉式X射線成像的光柵的模塊化制造技術是由B·R·戴維;S·P·普雷弗爾哈爾;T·克勒;S·L·勒舍爾設計研發完成，并于2020-11-16向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于干涉式X射線成像的光柵的模塊化制造技術在說明書摘要公布了：一種由光柵片塊制造光柵組件GA以用于干涉式X射線成像的方法以及促進實踐方法的相關設備。所述方法包括將光柵GT片塊應用S350于彎曲載體襯底，或者將所述彎曲載體襯底應用于所述光柵片塊，使得片塊的曲率與所述載體襯底的曲率一致。
本發明授權用于干涉式X射線成像的光柵的模塊化制造技術在權利要求書中公布了：1.一種由光柵片塊制造光柵組件以用于干涉式X射線成像的方法，包括以下步驟： 在制造設備的彎曲表面上布置光柵片塊，使得所述光柵片塊具有曲率，并且然后 將所述光柵片塊應用于彎曲載體襯底，或者將所述彎曲載體襯底應用于所述光柵片塊，使得所述片塊的所述曲率與所述載體襯底的曲率一致， 其中，所述制造設備的所述彎曲表面是凹面，并且 其中，所述光柵片塊包括兩個相對的表面，即第一表面和第二表面，所述表面中的一個，即所述第二表面，包括一組凹槽，其中，所述第二表面在所述彎曲載體襯底的遠側， 其中，在兩個相鄰的光柵片塊之間存在間隙，所述方法還包括減小這樣的間隙的寬度。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人皇家飛利浦有限公司，其通訊地址為：荷蘭艾恩德霍芬；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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