湖南大學陽衛軍獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉湖南大學申請的專利一種高性能鈷基析氧電催化納米材料的制備方法與應用獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN112663085B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-23發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202011390508.9,技術領域涉及:C25B11/091;該發明授權一種高性能鈷基析氧電催化納米材料的制備方法與應用是由陽衛軍;李歡歡;譚明洋設計研發完成,并于2020-12-02向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種高性能鈷基析氧電催化納米材料的制備方法與應用在說明書摘要公布了:本發明以具有高導電性能的泡沫鎳為基底,首先通過溶劑熱法,在泡沫鎳上生長出層狀排列的結構為Co2OH3Cl前體材料;隨后再加入鄰氨基對苯二甲酸等作為配體,通過溶劑熱法進行配體轉換反應,合成了具有超薄結構的金屬有機框架MOF納米片CoMOF?NH2。最后通過在高溫下的惰性氣氛中進行可控熱處理,得到了一種具有高效OER催化性能的多孔納米片Co3O4NC。Co3O4NC在1MKOH電解中僅需235mV和264mV的過電位就達10mAcm2和100mAcm2的電流密度,并且塔菲爾斜率僅為80mVdec,長時間使用后性能仍保持穩定。
本發明授權一種高性能鈷基析氧電催化納米材料的制備方法與應用在權利要求書中公布了:1.一種高性能鈷基析氧電催化納米材料,其特征在于,該材料由生長在泡沫鎳基底上的納米Co3O4與氮碳材料復合而成,標記為Co3O4NC,具有獨特的由Co3O4納米粒子通過氮雜碳相互連接而形成的層片狀結構,納米片層的厚度為4~7nm;該材料的制備方法,包括以下步驟: (1)基底泡沫鎳(NF)的預處理:把1cm×1cm的泡沫鎳塊,依次在丙酮中超聲20分鐘,3M的鹽酸溶液中超聲15分鐘,最后依次用乙醇和去離子水反復沖洗,最后在60℃的真空干燥箱內干燥6h得到清潔的泡沫鎳; (2)將鈷源氯化鈷和表面活性劑十六烷基三甲基溴化銨溶于極性溶劑中,超聲15分鐘,轉移到高壓反應釜,將(1)中得到的泡沫鎳浸入上述溶液中,進行密閉水熱反應,將產物進行洗滌,干燥,得到生長于泡沫鎳表面的層片狀的產物1Co2OH3Cl; (3)將配體鄰氨基對苯二甲酸加入極性溶劑中,超聲15分鐘得到澄清溶液,轉移到聚四氟乙烯內襯的高壓反應釜,將產物1浸入其中,進行水熱反應使其配體發生轉換,將產物進行洗滌,干燥,得到納米薄片狀的、具有金屬有機框架(MOF)結構特征的產物2CoMOF-NH2; (4)將產物2進一步在惰性氣氛里高溫煅燒,即得到高性能Co3O4NC析氧電催化納米材料。
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