宇泉半導(dǎo)體(保定)有限公司張崇獲國(guó)家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉宇泉半導(dǎo)體(保定)有限公司申請(qǐng)的專利一種并聯(lián)多芯片均流大功率全橋SiC模塊獲國(guó)家實(shí)用新型專利權(quán),本實(shí)用新型專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN223378169U 。
龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-23發(fā)布的實(shí)用新型授權(quán)公告中獲悉:該實(shí)用新型的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202422523506.2,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H01L23/495;該實(shí)用新型一種并聯(lián)多芯片均流大功率全橋SiC模塊是由張崇;王志超;柏治國(guó);趙冬;夏良兵;王新哲;夏爽;劉雪川設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2024-10-18向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本一種并聯(lián)多芯片均流大功率全橋SiC模塊在說(shuō)明書摘要公布了:本實(shí)用新型涉及功率模塊技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種并聯(lián)多芯片均流大功率全橋SiC模塊。其技術(shù)方案包括外殼,所述外殼內(nèi)固定有基板,所述基板的底部焊接有散熱器,所述基板的頂部分別安裝有信號(hào)端子、功率端子和開關(guān)元件,所述基板為兩塊,兩塊基板電性連接,所述基板由依次連接的正面導(dǎo)電金屬銅層、中間陶瓷絕緣層和背面金屬銅層組成,正面導(dǎo)電金屬銅層連接有鍵合線和芯片,鍵合線的一端與芯片連接,所述中間陶瓷絕緣層為氧化鋁板、氮化硅板和氮化鋁板中的任一種,所述外殼的頂部固定連接有絕緣蓋板。本實(shí)用新型通過對(duì)基板進(jìn)行優(yōu)化布局和門極電阻調(diào)整連接方式,使其降低寄生電感和熱阻,提高開關(guān)速率、功率輸出能力及模塊可靠性。
本實(shí)用新型一種并聯(lián)多芯片均流大功率全橋SiC模塊在權(quán)利要求書中公布了:1.一種并聯(lián)多芯片均流大功率全橋SiC模塊,包括外殼(1),其特征在于,所述外殼(1)內(nèi)固定有基板(3),所述基板(3)的底部焊接有散熱器(2),所述基板的頂部分別安裝有信號(hào)端子(4)、功率端子(5)和開關(guān)元件(8),所述開關(guān)元件(8)分別電性連接有焊接于基板(3)上的門極電阻(9)和熱敏電阻NTC(10),基板(3)的正面導(dǎo)電金屬銅層(301)包括電流輸入?yún)^(qū)一(3011)和電流輸入?yún)^(qū)二(3013),電流輸入?yún)^(qū)一(3011)和電流輸入?yún)^(qū)二(3013)之間設(shè)置有電流輸出區(qū)(3012),所述導(dǎo)電金屬銅層(301)的底部設(shè)置有交流輸出區(qū)(3014);電流輸出區(qū)(3012)的下方依次設(shè)置有開爾文源極區(qū)一(3015)和門極區(qū)一(3016);所述有交流輸出區(qū)(3014)的上方設(shè)置開爾文源極區(qū)二(3017)和門極區(qū)二(3018),電流輸入?yún)^(qū)二(3013)的一側(cè)設(shè)置有熱敏電阻區(qū)(3019)。
如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人宇泉半導(dǎo)體(保定)有限公司,其通訊地址為:071000 河北省保定市高開區(qū)勵(lì)行街666號(hào)大學(xué)科技園科創(chuàng)分園B6-203;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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