浙江大學(xué)時堯成獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉浙江大學(xué)申請的專利高功率適用的環(huán)形陣列硅基光學(xué)相控陣芯片及優(yōu)化方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號為:CN120233604B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-23發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為:202510703433.1,技術(shù)領(lǐng)域涉及:G02F1/29;該發(fā)明授權(quán)高功率適用的環(huán)形陣列硅基光學(xué)相控陣芯片及優(yōu)化方法是由時堯成;陳敬思;練岱欣;陳敬業(yè)設(shè)計研發(fā)完成,并于2025-05-29向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本高功率適用的環(huán)形陣列硅基光學(xué)相控陣芯片及優(yōu)化方法在說明書摘要公布了:本發(fā)明公開了一種高功率適用的環(huán)形陣列硅基光學(xué)相控陣芯片及優(yōu)化方法。本發(fā)明中,耦合光柵模塊用于接收入射光束,級聯(lián)分光模塊用于將入射光束分為多路未調(diào)制探測光束,相位調(diào)制模塊用于對每路未調(diào)制光束進行相位調(diào)制,生成相位調(diào)制后探測光束,二維天線環(huán)形陣列模塊用于將所有相位調(diào)制后探測光束發(fā)射到芯片外部,高功率展寬波導(dǎo)用于作為光束傳輸通道;二維天線環(huán)形陣列模塊采用軸對稱結(jié)構(gòu),主要由至少一個共圓心的二維天線環(huán)形陣列沿徑向從內(nèi)向外間隔排布而成,每個二維天線環(huán)形陣列主要由多個沿圓周均勻排布的二維光柵天線組成。本發(fā)明芯片具有高連續(xù)波光功率承載能力、低非線性損耗和熱量堆積。
本發(fā)明授權(quán)高功率適用的環(huán)形陣列硅基光學(xué)相控陣芯片及優(yōu)化方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種用于高功率適用的環(huán)形陣列硅基光學(xué)相控陣芯片的優(yōu)化方法,其特征在于,包括以下步驟:使用遺傳算法,根據(jù)遠場光束旁瓣抑制比和熱分布均勻性建立適應(yīng)度函數(shù),所述熱分布均勻性由環(huán)數(shù)、徑向間距和陣元間距決定;每個個體包括二維天線環(huán)形陣列的數(shù)量、環(huán)間徑向間距和各個二維天線環(huán)形陣列的陣元間距,經(jīng)多代選擇、交叉和變異操作,滿足終止條件后,得到最優(yōu)個體,根據(jù)最優(yōu)個體中的二維天線環(huán)形陣列的數(shù)量、環(huán)間徑向間距和各個二維天線環(huán)形陣列的陣元間距制造并得到所述環(huán)形陣列硅基光學(xué)相控陣芯片; 所述適應(yīng)度函數(shù)按照以下公式設(shè)置: f=SLSR-αp1-βp2-γp3 式中,f表示適應(yīng)度,SLSR表示遠場光束旁瓣抑制比,p1表示外環(huán)孔徑的懲罰量,p2表示陣元間距的懲罰量,p3表示環(huán)間徑向間距的懲罰量,α表示第一權(quán)重系數(shù),β表示第二權(quán)重系數(shù),γ表示第三權(quán)重系數(shù);三個權(quán)重系數(shù)的范圍分別為5~10、2~5和1~3; 三個懲罰量分別按照以下公式設(shè)置: p1=max[0,∑Am-AmaxAmax] p2=max[0,dmin-dedmin] p3=max[0,1.2Am-Am+1Am] 式中,max[]表示取最大值函數(shù),Am表示第m環(huán)的孔徑,Amax表示最大外環(huán)孔徑限制,de表示最小陣元間距限制,dmin表示任意兩個陣元間的最小間距; 所述優(yōu)化方法還包括以下步驟:每個移相器陣列中,移相器沿對稱軸方向等間距排布,通過熱學(xué)仿真和光學(xué)仿真方法獲得相鄰移相器的間距,根據(jù)移相器的數(shù)量和間距計算得到移相器陣列在對稱軸方向上的總寬度,根據(jù)移相器陣列在對稱軸方向上的總寬度設(shè)置最大外環(huán)孔徑限制; 所述環(huán)形陣列硅基光學(xué)相控陣芯片包括: 耦合光柵模塊(1),用于接收入射光束; 級聯(lián)分光模塊(2),用于將入射光束分為多路未調(diào)制探測光束; 相位調(diào)制模塊(3),用于對每路未調(diào)制光束進行相位調(diào)制,生成相位調(diào)制后探測光束; 二維天線環(huán)形陣列模塊(4),用于將所有相位調(diào)制后探測光束發(fā)射到芯片外部;采用軸對稱結(jié)構(gòu),主要由至少一個共圓心的二維天線環(huán)形陣列沿徑向從內(nèi)向外間隔排布而成,每個二維天線環(huán)形陣列主要由多個二維光柵天線(41)沿圓周均勻排布而成; 高功率展寬波導(dǎo)(6),用于作為光學(xué)通道; 所述耦合光柵模塊(1)、級聯(lián)分光模塊(2)、二維天線環(huán)形陣列模塊(4)和高功率展寬波導(dǎo)(6)通過刻蝕處理形成于厚硅層的頂面,所述高功率展寬波導(dǎo)(6)經(jīng)全刻蝕處理形成,厚硅層的厚度為500nm,高功率展寬波導(dǎo)(6)的波導(dǎo)寬度選自800nm; 所述級聯(lián)分光模塊(2)包括第一級分光器和兩個分光級聯(lián)網(wǎng)絡(luò),兩個分光級聯(lián)網(wǎng)絡(luò)對稱布置二維天線環(huán)形陣列模塊(4)的兩側(cè),第一級分光器的輸入端與耦合光柵模塊(1)的輸出端連接,第一級分光器的兩個輸出端分別與兩個分光級聯(lián)網(wǎng)絡(luò)的輸入端連接,每個分光級聯(lián)網(wǎng)絡(luò)的輸出端與同一側(cè)的二維天線環(huán)形陣列模塊(4)連接;所述相位調(diào)制模塊(3)包括兩個移相器陣列,兩個移相器陣列分別布置于兩個分光級聯(lián)網(wǎng)絡(luò)的輸出端的上方; 所述入射光束包括達到瓦量級功率的紅外波段的連續(xù)波光。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)@麢?quán)人浙江大學(xué),其通訊地址為:310058 浙江省杭州市西湖區(qū)余杭塘路866號;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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