細美事有限公司具滋明獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉細美事有限公司申請的專利支承單元和包括該支承單元的基板處理裝置獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115295386B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-16發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202210928718.1,技術領域涉及:H01J37/32;該發明授權支承單元和包括該支承單元的基板處理裝置是由具滋明;具重謨;李俊虎;安宗煥;羅世源設計研發完成,并于2018-10-30向國家知識產權局提交的專利申請。
本支承單元和包括該支承單元的基板處理裝置在說明書摘要公布了:本發明涉及支承單元和包括該支承單元的基板處理裝置。基板處理裝置包括:腔室,在該腔室內部具有處理空間;支承單元,其配置為支承基板;氣體供應單元,其配置為將氣體供應到處理空間中;和等離子體源,其配置為生成等離子體,其中,支承單元包括:支承板,基板定位在該支承板上;環組件,其圍繞支承板的周圍并具有環形電極;和電壓施加單元,其配置為通過向環形電極施加電壓來控制等離子體到基板上的入射角,且其中,電壓施加單元包括:導電材料的底板;直流電源,其配置為向底板施加直流電壓;和多個連接體,其連接底板和環形電極,由導電材料形成。
本發明授權支承單元和包括該支承單元的基板處理裝置在權利要求書中公布了:1.一種基板處理裝置,所述基板處理裝置包括: 腔室,在所述腔室的內部具有處理空間; 支承單元,所述支承單元被配置為在所述處理空間中支承基板; 氣體供應單元,所述氣體供應單元被配置為將氣體供應到所述處理空間中;和 等離子體源,所述等離子體源被配置為從所述氣體生成等離子體, 其中,所述支承單元還包括: 支承板,所述基板定位在所述支承板上; 環形電極,所述環形電極被配置為圍繞所述支承板;和 電壓施加單元,所述電壓施加單元被配置為通過向所述環形電極施加電壓來控制所述等離子體到所述基板上的入射角, 其中,所述電壓施加單元包括: 導電材料的底板; 直流電源,所述直流電源被配置為向所述底板施加所述電壓;和 多個連接體,所述多個連接體設置在所述支承板的外部并且連接所述底板和所述環形電極,且 其中,所述底板具有環形狀并且與所述支承板的下側間隔開; 其中,所述多個連接體由導電材料形成。
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