三星電子株式會(huì)社金志永獲國(guó)家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉三星電子株式會(huì)社申請(qǐng)的專利半導(dǎo)體存儲(chǔ)器裝置及其制造方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN110890372B 。
龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-16發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:201910827503.9,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H10B12/00;該發(fā)明授權(quán)半導(dǎo)體存儲(chǔ)器裝置及其制造方法是由金志永;金大元;李東鎮(zhèn)設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2019-09-03向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本半導(dǎo)體存儲(chǔ)器裝置及其制造方法在說(shuō)明書摘要公布了:公開了一種半導(dǎo)體存儲(chǔ)器裝置及其制造方法。該器件可包括:包括單元陣列區(qū)域的第一襯底;覆蓋第一襯底的第一層間絕緣層;設(shè)置在第一層間絕緣層上的第二襯底,該第二襯底包括電連接到單元陣列區(qū)域的芯區(qū)域;第一粘合絕緣層,插入在第一層間絕緣層和第二襯底之間;以及接觸插塞,穿透第二襯底、第一粘合絕緣層和第一層間絕緣層并將單元陣列區(qū)域與芯區(qū)域電連接。
本發(fā)明授權(quán)半導(dǎo)體存儲(chǔ)器裝置及其制造方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種半導(dǎo)體存儲(chǔ)器裝置,包括: 第一襯底,其包括單元陣列區(qū)域; 第一層間絕緣層,其覆蓋所述第一襯底的頂表面; 第二襯底,其設(shè)置在所述第一層間絕緣層上,所述第二襯底包括電連接到所述單元陣列區(qū)域的芯區(qū)域; 第一粘合絕緣層,其插入在所述第一層間絕緣層和所述第二襯底之間;以及 第一接觸插塞和第二接觸插塞,其穿透所述第二襯底、所述第一粘合絕緣層和所述第一層間絕緣層并將所述單元陣列區(qū)域與所述芯區(qū)域電連接, 其中,所述第一接觸插塞的底表面位于所述第一襯底的頂表面上方,所述第二接觸插塞的底表面位于所述第一襯底的頂表面下方。
如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人三星電子株式會(huì)社,其通訊地址為:韓國(guó)京畿道;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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