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龍圖騰網(wǎng)獲悉蘇州華星光電技術(shù)有限公司申請(qǐng)的專利發(fā)光基板及顯示裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN115172348B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-12發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202210774756.6，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H10H29/24；該發(fā)明授權(quán)發(fā)光基板及顯示裝置是由陳璐;劉瓊;李君杰;曹丹設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2022-07-01向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本發(fā)光基板及顯示裝置在說明書摘要公布了：本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N發(fā)光基板及顯示裝置，該發(fā)光基板包括驅(qū)動(dòng)基板、導(dǎo)光功能層和反射層，驅(qū)動(dòng)基板上設(shè)有多個(gè)發(fā)光器件和多個(gè)支撐柱，導(dǎo)光功能層設(shè)置于各支撐柱遠(yuǎn)離所述驅(qū)動(dòng)基板的一側(cè)，反射層設(shè)置于驅(qū)動(dòng)基板上且位于各發(fā)光器件之間，反射層包括反射主體和多個(gè)低反單元，一低反單元繞一支撐柱設(shè)置，且反射層在反射主體位置的反射率大于反射層在低反單元位置的反射率；通過將反射層劃分為反射主體和多個(gè)低反單元，一低反單元繞一支撐柱設(shè)置，且反射層在反射主體位置的反射率大于反射層在低反單元位置的反射率，從而降低反射層在支撐柱附件的反射率，避免在支撐柱位置出現(xiàn)光線聚集而導(dǎo)致發(fā)光基板的出光亮暗不均，保證了發(fā)光基板出光的均勻性。

本發(fā)明授權(quán)發(fā)光基板及顯示裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種發(fā)光基板，其特征在于，包括： 驅(qū)動(dòng)基板，所述驅(qū)動(dòng)基板上設(shè)有多個(gè)發(fā)光器件； 多個(gè)支撐柱，間隔設(shè)置與所述驅(qū)動(dòng)基板上，且位于各所述發(fā)光器件之間； 導(dǎo)光功能層，設(shè)置于各所述支撐柱遠(yuǎn)離所述驅(qū)動(dòng)基板的一側(cè)； 反射層，設(shè)置于所述驅(qū)動(dòng)基板上，且位于各所述發(fā)光器件之間； 其中，所述反射層包括反射主體和多個(gè)低反單元，一所述低反單元繞一所述支撐柱設(shè)置，且所述反射層在所述反射主體位置的反射率大于所述反射層在所述低反單元位置的反射率；所述低反單元包括位于所述反射層的開口，所述開口包括繞所述支撐柱設(shè)置的多個(gè)子開口，一所述支撐柱與對(duì)應(yīng)的多個(gè)所述子開口中，所述子開口的開口寬度在遠(yuǎn)離所述支撐柱的方向上逐漸減小。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人蘇州華星光電技術(shù)有限公司，其通訊地址為：215000 江蘇省蘇州市蘇州工業(yè)園區(qū)方洲路338號(hào)；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。