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龍圖騰網(wǎng)獲悉西安交通大學申請的專利一種4J33可伐合金第二類殘余應力的測試方法獲國家發(fā)明授權專利權，本發(fā)明授權專利權由國家知識產(chǎn)權局授予，授權公告號為：CN116539203B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權局官網(wǎng)在2025-09-12發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉：該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為：202310518824.7，技術領域涉及：G01L5/00；該發(fā)明授權一種4J33可伐合金第二類殘余應力的測試方法是由張學蘇;曾學良;張林杰;寧杰;龍健設計研發(fā)完成，并于2023-05-09向國家知識產(chǎn)權局提交的專利申請。

本一種4J33可伐合金第二類殘余應力的測試方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明公開一種4J33可伐合金第二類殘余應力的測試方法，涉及分析儀器及材料測試技術領域，包括：將退火態(tài)無應力試樣以及預加等雙軸已知應力的試樣裝入納米壓痕儀，以待測點為圓心，以2倍晶粒平均尺寸為半徑，對進入標記圓內(nèi)的晶粒進行納米壓痕實驗，得到標記圓中每個晶粒內(nèi)壓入的所有壓痕數(shù)據(jù)；分別對標記圓中每個晶粒內(nèi)壓入的所有壓痕數(shù)據(jù)取平均值，得到標記圓中每個晶粒對應的壓痕數(shù)據(jù)平均值；對標記圓中所有晶粒對應的壓痕數(shù)據(jù)平均值加和后再求平均值，得到標記圓中所有晶粒對應的壓痕數(shù)據(jù)平均值，將其代入殘余應力的計算模型中，得到第二類殘余應力。本發(fā)明可有效減小晶粒取向差異對納米壓痕法殘余應力測試精度的影響。

本發(fā)明授權一種4J33可伐合金第二類殘余應力的測試方法在權利要求書中公布了：1.一種4J33可伐合金第二類殘余應力的測試方法，其特征在于，所述測試方法包括： 對待測試的4J33可伐合金的樣品進行處理，得到退火態(tài)無應力試樣以及預加等雙軸已知應力的試樣； 將所述退火態(tài)無應力試樣以及所述預加等雙軸已知應力的試樣裝入納米壓痕儀，以待測點為圓心，以2倍晶粒平均尺寸為半徑，對進入標記圓內(nèi)的晶粒進行納米壓痕實驗，得到所述標記圓中每個晶粒內(nèi)壓入的所有壓痕數(shù)據(jù)；所述標記圓為用于晶粒選取所標記的圓； 分別對所述標記圓中每個晶粒內(nèi)壓入的所有壓痕數(shù)據(jù)取平均值，得到所述標記圓中每個晶粒對應的壓痕數(shù)據(jù)平均值； 對所述標記圓中所有晶粒對應的壓痕數(shù)據(jù)平均值加和后再求平均值，得到所述標記圓中所有晶粒對應的壓痕數(shù)據(jù)平均值； 將所述標記圓中所有晶粒對應的壓痕數(shù)據(jù)平均值代入殘余應力的計算模型中，得到第二類殘余應力。

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